《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》
耐高溫 機械強度高 耐損耗 超高功率 國家標準產(chǎn)品
2021新版《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》
氧化鋯陶瓷的生產(chǎn)要求制備高純、分散性能好、粒子超細、粒度分布窄的粉體,氧化鋯超細粉末的制備方法很多,氧化鋯的提純主要有氯化和熱分解法、堿金屬氧化分解法、石灰熔融法、等離子弧法、沉淀法、膠體法、水解法、噴霧熱解法等。粉體加工方法有共沉淀法、溶膠一凝膠法、蒸發(fā)法、超臨界合成法、微乳液法、水熱合成法網(wǎng)及氣相沉積法等.
在功能陶瓷方面,其優(yōu)異的耐高溫性能作為感應加熱管、耐火材料、發(fā)熱元件使用。氧化鋯陶瓷具有敏感的電性能參數(shù),主要應用于氧傳感器、固體氧化物燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC)和高溫發(fā)熱體等領(lǐng)域。ZrO2具有較高的折射率(N-21^22),在超細的氧化鋯粉末中添加一定的著色元素(V2O5, MoO3, Fe2O3等),可將它制成多彩的半透明多晶ZrO2材料,像天然寶石一樣閃爍著絢麗多彩的光芒,可制成各種裝飾品。另外,氧化鋯在熱障涂層、催化劑載體、醫(yī)療、保健、耐火材料、紡織等領(lǐng)域正得到廣泛應用。
日本在全球光刻膠及剝離液市場中占據(jù)主導地位,尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而,中國通過政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同,正在加速實現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應風險和技術(shù)挑戰(zhàn),但長期來看,國產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。
本資料是收錄涉及國內(nèi)光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料,資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測試及標準、實際應用效果,技術(shù)指標,解決的具體問題等等,是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實用、超值和難得的技術(shù)資料。
【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語種】中文
【項目數(shù)量】56項
【電子版】1480元(PDF文檔 郵件發(fā)送)
目錄
1 | 一種長效光刻膠剝離液及其應用 | 上海戎洲芯科技有限公司 |
2 | 一種光刻膠剝離液及其制備方法和應用 | 福建泓光半導體材料有限公司 |
3 | 一種低腐蝕、易清洗的芯片光刻膠剝離液、其制備方法及用途 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
4 | 一種能夠保護GaAs和PI襯底的光刻膠剝離液及其應用 | 芯越微電子材料(嘉興)有限公司 |
5 | 一種聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻膠蝕刻殘留剝離劑組合物 | 深圳迪道微電子科技有限公司 |
6 | AMOLED領(lǐng)域用水性光刻膠剝離液及其制備方法 | 蘇州博洋化學股份有限公司 |
7 | 一種顯示面板用水系光刻膠剝離液及其制備方法和應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
8 | 一種光刻膠剝離液、其制備方法及應用 | 北京盛劍微電子技術(shù)有限公司 |
9 | 一種顯示面板用正性光刻膠剝離液及其制備方法和應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
10 | 一種光刻膠剝離液、其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
11 | 光刻膠清洗液及其制備方法、應用 | 上海盛劍微電子有限公司 |
12 | 一種用于顯示面板的水基型光刻膠剝離液、制備方法及應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
13 | 一種高回收率的光刻膠剝離液 | 合肥中聚和成電子材料有限公司 |
14 | 一種低腐蝕芯片光刻膠剝離液、其制備方法及應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
15 | 一種顯示面板光刻膠剝離液及其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
16 | 一種芯片光刻膠剝離液、其制備方法及用途 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
17 | 光刻膠剝離液及其應用 | 上海盛劍微電子有限公司 |
18 | 一種可再生光刻膠剝離液及其制備方法 | 惠州達誠微電子材料有限公司 |
19 | 一種銅鉬基板用光刻膠剝離液 | 合肥中聚和成電子材料有限公司 |
20 | 用于制造液晶顯示的光刻膠剝離劑組合物 | 安慶市鑫祥瑞環(huán)??萍加邢薰?/span> |
21 | 一種用于半導體化合物光刻膠的剝離液、其制備方法及用途 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
22 | 一種水性光刻膠剝離液及其制備方法 | 安慶市鑫祥瑞環(huán)??萍加邢薰?/span> |
23 | 光刻膠剝離組合物 | 關(guān)東化學株式會社 |
24 | 光刻膠剝離液及其制備方法和應用 | 深圳市信維通信股份有限公司 |
25 | 光刻膠剝離組合物 | 關(guān)東化學株式會社 |
26 | 一種半導體芯片光刻膠剝離液及其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
27 | 一種正性光刻膠剝離液組合物 | 易安愛富(武漢)科技有限公司 |
28 | 高耐熱性光刻膠的剝離組合物及其應用 | 上海飛凱材料科技股份有限公司 |
29 | 一種耐高溫低腐蝕光刻膠剝離液及其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
30 | 一種光刻膠用剝離液及其制備方法 | 惠州達誠微電子材料有限公司 |
31 | 一種高分散芯片光刻膠清洗劑及其制備方法與用途 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
32 | 光刻膠剝離用組合物 | 株式會社東進世美肯 |
33 | 一種負性光刻膠剝離液 | 無錫中珂芯維科技有限公司 |
34 | 一種還原性芯片光刻膠剝離液、其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
35 | 一種光刻膠有機剝離液及其制備方法和應用 | 綿陽艾薩斯電子材料有限公司 |
36 | 一種高效緩蝕芯片光刻膠剝離液、其制備方法與用途 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
37 | 一種光刻膠剝離液組合物、制備方法及其應用 | 成都三貢化工有限公司 |
38 | 一種光刻膠剝離液及其制備方法和應用 | 上海盛劍微電子有限公司 |
39 | 一種芯片光刻膠剝離劑、其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
40 | 一種芯片光刻膠剝離劑組合物、其制備方法與應用 | 浙江奧首材料科技有限公司 |
41 | 一種用于制備金屬凸點的雙層正性光刻膠剝離方法 | 南昌大學;南昌硅基半導體科技有限公司 |
42 | 一種水系光刻膠剝離液 | 合肥中聚和成電子材料有限公司 |
43 | 光刻膠剝離液及其制備方法和光刻膠的剝離方法 | 上海盛劍微電子有限公司 |
44 | 一種用于去除銅層負性光刻膠的剝離液及其制備方法和應用 | 江蘇艾森半導體材料股份有限公司;艾森半導體材料(南通)有限公司 |
45 | 一種光刻膠剝離液及其制備方法 | 華璞微電子科技(寧波)有限公司 |
46 | 一種光刻膠剝離去膠液及其應用工藝 | 江蘇長進微電子材料有限公司 |
47 | 光刻膠剝離液 | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
48 | 一種金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物及其應用 | 昆山欣谷微電子材料有限公司 |
49 | 用于半導體化合物光刻膠的剝離劑、其制備方法及用途 | 江蘇奧首材料科技有限公司 |
50 | 一種用于三五族半導體化合物光刻膠的剝離劑、其制備方法及用途 | 江蘇奧首材料科技有限公司 |
51 | 一種改進的環(huán)保水系光刻膠剝離液 | 江陰江化微電子材料股份有限公司 |
52 | 光刻膠剝離液組合物及其制備方法 | 易安愛富科技有限公司 |
53 | 一種正性光刻膠剝離液組合物及應用 | 易安愛富(武漢)科技有限公司 |
54 | 一種光刻膠剝離液組合物 | 合肥中聚和成電子材料有限公司 |
55 | PFA光刻膠再生剝離液及其制備方法與應用 | 綿陽艾薩斯電子材料有限公司 |
56 | 一種光刻膠剝離液及其制備方法 | 芯越微電子材料(嘉興)有限公司 |
北京恒志信科????技發(fā)展有限公?司
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