《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》
耐高溫 機(jī)械強(qiáng)度高 耐損耗 超高功率 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品
2021新版《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》
氧化鋯陶瓷的生產(chǎn)要求制備高純、分散性能好、粒子超細(xì)、粒度分布窄的粉體,氧化鋯超細(xì)粉末的制備方法很多,氧化鋯的提純主要有氯化和熱分解法、堿金屬氧化分解法、石灰熔融法、等離子弧法、沉淀法、膠體法、水解法、噴霧熱解法等。粉體加工方法有共沉淀法、溶膠一凝膠法、蒸發(fā)法、超臨界合成法、微乳液法、水熱合成法網(wǎng)及氣相沉積法等.
在功能陶瓷方面,其優(yōu)異的耐高溫性能作為感應(yīng)加熱管、耐火材料、發(fā)熱元件使用。氧化鋯陶瓷具有敏感的電性能參數(shù),主要應(yīng)用于氧傳感器、固體氧化物燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC)和高溫發(fā)熱體等領(lǐng)域。ZrO2具有較高的折射率(N-21^22),在超細(xì)的氧化鋯粉末中添加一定的著色元素(V2O5, MoO3, Fe2O3等),可將它制成多彩的半透明多晶ZrO2材料,像天然寶石一樣閃爍著絢麗多彩的光芒,可制成各種裝飾品。另外,氧化鋯在熱障涂層、催化劑載體、醫(yī)療、保健、耐火材料、紡織等領(lǐng)域正得到廣泛應(yīng)用。
日本在全球光刻膠及剝離液市場(chǎng)中占據(jù)主導(dǎo)地位,尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而,中國(guó)通過(guò)政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同,正在加速實(shí)現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國(guó)產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應(yīng)風(fēng)險(xiǎn)和技術(shù)挑戰(zhàn),但長(zhǎng)期來(lái)看,國(guó)產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。
本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料,資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測(cè)試及標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)際應(yīng)用效果,技術(shù)指標(biāo),解決的具體問(wèn)題等等,是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實(shí)用、超值和難得的技術(shù)資料。
【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語(yǔ)種】英文 中文
【項(xiàng)目數(shù)量】54項(xiàng)
【電子版】1980元(PDF文檔 郵件發(fā)送)
目錄
1 | 硬化物層を基板から剝離する剝離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剝離液 | 東京応化工業(yè)株式會(huì)社 |
2 | 樹(shù)脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會(huì)社 |
3 | レジスト剝離液 | 太陽(yáng)インキ製造株式會(huì)社 |
4 | フォトレジスト剝離液 | ナガセケムテックス株式會(huì)社 |
5 | フォトレジスト剝離組成物 | 関東化學(xué)株式會(huì)社 |
6 | レジスト剝離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 東友ファインケム株式會(huì)社 |
7 | 回路基板用樹(shù)脂膜剝離剤 | 日油株式會(huì)社 |
8 | レジストの剝離液 | 株式會(huì)社JCU |
9 | レジスト用剝離組成物 | 三洋化成工業(yè)株式會(huì)社 |
10 | レジスト剝離液組成物 | 野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社 |
11 | レジスト剝離液及びレジストの剝離方法 | ナガセケムテックス株式會(huì)社 |
12 | ネガ型樹(shù)脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會(huì)社 |
13 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社 |
14 | 剝離液、これを用いた剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
15 | レジスト剝離液とその製造方法 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
16 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
17 | レジスト剝離剤及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 東ソー株式會(huì)社 |
18 | フォトリソグラフィ用剝離液及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會(huì)社 |
19 | レジスト剝離液の組成比維持裝置およびレジスト剝離液の組成比維持方法 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
20 | 変性レジストの剝離液、これを用いた変性レジストの剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
21 | パターン剝離方法、電子デバイスの製造方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
22 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 旭化成イーマテリアルズ株式會(huì)社 |
23 | レジスト剝離液 | パナソニック株式會(huì)社 |
24 | レジスト剝離剤組成物 | ライオン株式會(huì)社 |
25 | レジスト除去液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
26 | フォトレジスト剝離液組成物 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
27 | フォトリソグラフィ用剝離液、及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會(huì)社 |
28 | レジスト剝離剤及びそれを用いた剝離方法 | 東ソー株式會(huì)社 |
29 | レジスト剝離剤 | 野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社 |
30 | レジスト剝離液の劣化抑制方法、レジスト剝離方法及びシステム | 三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社 |
31 | レジスト剝離液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
32 | 剝離剤組成物 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
33 | 剝離液リサイクルシステムと運(yùn)転方法および剝離液のリサイクル方法 | パナソニック株式會(huì)社 |
34 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニック株式會(huì)社 |
35 | フォトレジスト剝離剤組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社 |
36 | レジスト剝離剤組成物及び當(dāng)該組成物を用いたレジストの剝離方法 | 和光純薬工業(yè)株式會(huì)社 |
37 | レジスト剝離液組成物及びこれを用いたレジストの剝離方法 | 東友ファインケム株式會(huì)社 |
38 | フォトレジスト剝離剤組成物及びフォトレジスト剝離方法 | ナガセケムテックス株式會(huì)社 |
39 | レジスト剝離剤組成物及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 出光興産株式會(huì)社 |
40 | 防食性フォトレジスト剝離剤組成物 | 出光興産株式會(huì)社 |
41 | フェニルジケトン誘導(dǎo)體を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會(huì)社 |
42 | インドール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會(huì)社 |
43 | レジスト剝離液 | 東ソー株式會(huì)社 |
44 | レジスト剝離液 | パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社 |
45 | ビアリール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會(huì)社 |
46 | レジスト剝離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剝離剤 | 出光興産株式會(huì)社 |
47 | 剝離用組成物および剝離方法 | 旭硝子株式會(huì)社 |
48 | 半導(dǎo)體デバイスの剝離液、及び、剝離方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
49 | レジスト用剝離剤組成物及び半導(dǎo)體裝置の製造方法 | ソニー株式會(huì)社 |
50 | レジスト剝離剤組成物 | 東亞合成株式會(huì)社 |
51 | フォトレジスト剝離剤組成物 | ナガセケムテックス株式會(huì)社 |
52 | レジスト剝離剤及びその製造方法 | 出光興産株式會(huì)社 |
53 | 粒子を含有するレジスト剝離液及びそれを用いた剝離方法 | 富士フイルム株式會(huì)社 |
54 | フォトレジスト剝離液組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社 |
北京恒志信科????技發(fā)展有限公?司
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