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    《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》    
     
耐高溫  機(jī)械強(qiáng)度高  耐損耗   超高功率  國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品
New Technology Of Graphite Materials
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  • 氧化鋯陶瓷高新技術(shù)!產(chǎn)品應(yīng)用,產(chǎn)品配方 生產(chǎn)工藝技術(shù)。技術(shù)新,環(huán)保,涉及面廣。內(nèi)容涵蓋技術(shù)背景/原理、材料配方比例、制作方法、工藝步驟、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)圖(部分設(shè)備類有),以及發(fā)明人名稱、地址、郵編、申請(qǐng)日期、專利號(hào)、權(quán)利要求等詳細(xì)信息?。?!   想要高技術(shù)配方! 想生產(chǎn)高性能!想降低成本! 想創(chuàng)業(yè)轉(zhuǎn)型! 請(qǐng)訂購(gòu)2021新版《氧化鋯陶瓷制造配方及應(yīng)用新技術(shù)精選》!


2021新版《氧化鋯陶瓷制造工藝配方精選》

         氧化鋯陶瓷的生產(chǎn)要求制備高純、分散性能好、粒子超細(xì)、粒度分布窄的粉體,氧化鋯超細(xì)粉末的制備方法很多,氧化鋯的提純主要有氯化和熱分解法、堿金屬氧化分解法、石灰熔融法、等離子弧法、沉淀法、膠體法、水解法、噴霧熱解法等。粉體加工方法有共沉淀法、溶膠一凝膠法、蒸發(fā)法、超臨界合成法、微乳液法、水熱合成法網(wǎng)及氣相沉積法等.


       在功能陶瓷方面,其優(yōu)異的耐高溫性能作為感應(yīng)加熱管、耐火材料、發(fā)熱元件使用。氧化鋯陶瓷具有敏感的電性能參數(shù),主要應(yīng)用于氧傳感器、固體氧化物燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC)和高溫發(fā)熱體等領(lǐng)域。ZrO2具有較高的折射率(N-21^22),在超細(xì)的氧化鋯粉末中添加一定的著色元素(V2O5, MoO3, Fe2O3等),可將它制成多彩的半透明多晶ZrO2材料,像天然寶石一樣閃爍著絢麗多彩的光芒,可制成各種裝飾品。另外,氧化鋯在熱障涂層、催化劑載體、醫(yī)療、保健、耐火材料、紡織等領(lǐng)域正得到廣泛應(yīng)用。


       為了配合國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策向廣大企業(yè)、科研院校提供的我國(guó)及國(guó)外最新工藝功能陶瓷及耐火制品技術(shù)制造工藝配方專利匯編技術(shù)資料。資料中每個(gè)項(xiàng)目包含了最詳細(xì)的技術(shù)制造 資料,現(xiàn)有技術(shù)問(wèn)題及解決方案、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝、配方、產(chǎn)品性能測(cè)試,對(duì)比分析。資料信息量大,實(shí)用性強(qiáng),是從事新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、參與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的必備工具。 本篇匯編資料分為精裝合訂本和光盤(pán)版,內(nèi)容相同,用戶可根據(jù)自己需求購(gòu)買(mǎi)。現(xiàn)貨發(fā)行,歡迎新老客戶選購(gòu)。特快專遞郵寄。資料分為上、下兩冊(cè),A4紙大,共748頁(yè)現(xiàn)貨發(fā)行,歡迎訂購(gòu)

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2025版《日本光刻膠剝離液制造工藝配方精選匯編》

2025版《日本光刻膠剝離液制造工藝配方精選匯編》

日本在全球光刻膠及剝離液市場(chǎng)中占據(jù)主導(dǎo)地位,尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而,中國(guó)通過(guò)政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同,正在加速實(shí)現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國(guó)產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應(yīng)風(fēng)險(xiǎn)和技術(shù)挑戰(zhàn),但長(zhǎng)期來(lái)看,國(guó)產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。

  本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料,資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測(cè)試及標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)際應(yīng)用效果,技術(shù)指標(biāo),解決的具體問(wèn)題等等,是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實(shí)用、超值和難得的技術(shù)資料。


【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語(yǔ)種】英文 中文
【項(xiàng)目數(shù)量】54項(xiàng)
電子版】1980元(PDF文檔  郵件發(fā)送)


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日本在全球光刻膠及剝離液市場(chǎng)中占據(jù)主導(dǎo)地位,尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而,中國(guó)通過(guò)政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同,正在加速實(shí)現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國(guó)產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應(yīng)風(fēng)險(xiǎn)和技術(shù)挑戰(zhàn),但長(zhǎng)期來(lái)看,國(guó)產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。

  本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料,資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測(cè)試及標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)際應(yīng)用效果,技術(shù)指標(biāo),解決的具體問(wèn)題等等,是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實(shí)用、超值和難得的技術(shù)資料。


【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語(yǔ)種】英文 中文
【項(xiàng)目數(shù)量】54項(xiàng)
電子版】1980元(PDF文檔  郵件發(fā)送)


目錄

1硬化物層を基板から剝離する剝離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剝離液東京応化工業(yè)株式會(huì)社
2樹(shù)脂マスク剝離用洗浄剤組成物花王株式會(huì)社
3レジスト剝離液太陽(yáng)インキ製造株式會(huì)社
4フォトレジスト剝離液ナガセケムテックス株式會(huì)社
5フォトレジスト剝離組成物関東化學(xué)株式會(huì)社
6レジスト剝離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法東友ファインケム株式會(huì)社
7回路基板用樹(shù)脂膜剝離剤日油株式會(huì)社
8レジストの剝離液株式會(huì)社JCU
9レジスト用剝離組成物三洋化成工業(yè)株式會(huì)社
10レジスト剝離液組成物野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社
11レジスト剝離液及びレジストの剝離方法ナガセケムテックス株式會(huì)社
12ネガ型樹(shù)脂マスク剝離用洗浄剤組成物花王株式會(huì)社
13レジスト剝離液及びレジスト剝離方法野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社
14剝離液、これを用いた剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法富士フイルム株式會(huì)社
15レジスト剝離液とその製造方法パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
16フォトレジスト用剝離液パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
17レジスト剝離剤及びそれを用いたレジスト剝離方法東ソー株式會(huì)社
18フォトリソグラフィ用剝離液及びパターン形成方法東京応化工業(yè)株式會(huì)社
19レジスト剝離液の組成比維持裝置およびレジスト剝離液の組成比維持方法パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
20変性レジストの剝離液、これを用いた変性レジストの剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法富士フイルム株式會(huì)社
21パターン剝離方法、電子デバイスの製造方法富士フイルム株式會(huì)社
22レジスト剝離液及びレジスト剝離方法旭化成イーマテリアルズ株式會(huì)社
23レジスト剝離液パナソニック株式會(huì)社
24レジスト剝離剤組成物ライオン株式會(huì)社
25レジスト除去液およびレジスト剝離方法富士フイルム株式會(huì)社
26フォトレジスト剝離液組成物パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
27フォトリソグラフィ用剝離液、及びパターン形成方法東京応化工業(yè)株式會(huì)社
28レジスト剝離剤及びそれを用いた剝離方法東ソー株式會(huì)社
29レジスト剝離剤野村マイクロ?サイエンス株式會(huì)社
30レジスト剝離液の劣化抑制方法、レジスト剝離方法及びシステム三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社
31レジスト剝離液およびレジスト剝離方法富士フイルム株式會(huì)社
32剝離剤組成物パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
33剝離液リサイクルシステムと運(yùn)転方法および剝離液のリサイクル方法パナソニック株式會(huì)社
34フォトレジスト用剝離液パナソニック株式會(huì)社
35フォトレジスト剝離剤組成物三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社
36レジスト剝離剤組成物及び當(dāng)該組成物を用いたレジストの剝離方法和光純薬工業(yè)株式會(huì)社
37レジスト剝離液組成物及びこれを用いたレジストの剝離方法東友ファインケム株式會(huì)社
38フォトレジスト剝離剤組成物及びフォトレジスト剝離方法ナガセケムテックス株式會(huì)社
39レジスト剝離剤組成物及びそれを用いたレジスト剝離方法出光興産株式會(huì)社
40防食性フォトレジスト剝離剤組成物出光興産株式會(huì)社
41フェニルジケトン誘導(dǎo)體を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會(huì)社
42インドール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會(huì)社
43レジスト剝離液東ソー株式會(huì)社
44レジスト剝離液パナソニックIPマネジメント株式會(huì)社
45ビアリール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會(huì)社
46レジスト剝離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剝離剤出光興産株式會(huì)社
47剝離用組成物および剝離方法旭硝子株式會(huì)社
48半導(dǎo)體デバイスの剝離液、及び、剝離方法富士フイルム株式會(huì)社
49レジスト用剝離剤組成物及び半導(dǎo)體裝置の製造方法ソニー株式會(huì)社
50レジスト剝離剤組成物東亞合成株式會(huì)社
51フォトレジスト剝離剤組成物ナガセケムテックス株式會(huì)社
52レジスト剝離剤及びその製造方法出光興産株式會(huì)社
53粒子を含有するレジスト剝離液及びそれを用いた剝離方法富士フイルム株式會(huì)社
54フォトレジスト剝離液組成物三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社



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