日本在全球光刻膠及剝離液市場中占據(jù)主導(dǎo)地位，尤其是在高端光刻膠領(lǐng)域。然而，中國通過政策支持、技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同，正在加速實現(xiàn)光刻膠及相關(guān)材料的國產(chǎn)化替代。盡管短期內(nèi)仍面臨供應(yīng)風(fēng)險和技術(shù)挑戰(zhàn)，但長期來看，國產(chǎn)光刻膠的自主可控將成為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。
本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術(shù)資料，資料中包括制造原料、配方、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品性能測試及標(biāo)準(zhǔn)、實際應(yīng)用效果，技術(shù)指標(biāo)，解決的具體問題等等，是企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和發(fā)展新產(chǎn)品的重要、實用、超值和難得的技術(shù)資料。
【資料內(nèi)容】制造工藝及配方
【資料語種】英文 中文
【項目數(shù)量】54項
【電子版】1980元（PDF文檔 郵件發(fā)送）
目錄
| 1 | 硬化物層を基板から剝離する剝離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剝離液 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 2 | 樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會社 |
| 3 | レジスト剝離液 | 太陽インキ製造株式會社 |
| 4 | フォトレジスト剝離液 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 5 | フォトレジスト剝離組成物 | 関東化學(xué)株式會社 |
| 6 | レジスト剝離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 東友ファインケム株式會社 |
| 7 | 回路基板用樹脂膜剝離剤 | 日油株式會社 |
| 8 | レジストの剝離液 | 株式會社ＪＣＵ |
| 9 | レジスト用剝離組成物 | 三洋化成工業(yè)株式會社 |
| 10 | レジスト剝離液組成物 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 11 | レジスト剝離液及びレジストの剝離方法 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 12 | ネガ型樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物 | 花王株式會社 |
| 13 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 14 | 剝離液、これを用いた剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 15 | レジスト剝離液とその製造方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 16 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 17 | レジスト剝離剤及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 東ソー株式會社 |
| 18 | フォトリソグラフィ用剝離液及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 19 | レジスト剝離液の組成比維持裝置およびレジスト剝離液の組成比維持方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 20 | 変性レジストの剝離液、これを用いた変性レジストの剝離方法および半導(dǎo)體基板製品の製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 21 | パターン剝離方法、電子デバイスの製造方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 22 | レジスト剝離液及びレジスト剝離方法 | 旭化成イーマテリアルズ株式會社 |
| 23 | レジスト剝離液 | パナソニック株式會社 |
| 24 | レジスト剝離剤組成物 | ライオン株式會社 |
| 25 | レジスト除去液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 26 | フォトレジスト剝離液組成物 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 27 | フォトリソグラフィ用剝離液、及びパターン形成方法 | 東京応化工業(yè)株式會社 |
| 28 | レジスト剝離剤及びそれを用いた剝離方法 | 東ソー株式會社 |
| 29 | レジスト剝離剤 | 野村マイクロ?サイエンス株式會社 |
| 30 | レジスト剝離液の劣化抑制方法、レジスト剝離方法及びシステム | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
| 31 | レジスト剝離液およびレジスト剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 32 | 剝離剤組成物 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 33 | 剝離液リサイクルシステムと運(yùn)転方法および剝離液のリサイクル方法 | パナソニック株式會社 |
| 34 | フォトレジスト用剝離液 | パナソニック株式會社 |
| 35 | フォトレジスト剝離剤組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
| 36 | レジスト剝離剤組成物及び當(dāng)該組成物を用いたレジストの剝離方法 | 和光純薬工業(yè)株式會社 |
| 37 | レジスト剝離液組成物及びこれを用いたレジストの剝離方法 | 東友ファインケム株式會社 |
| 38 | フォトレジスト剝離剤組成物及びフォトレジスト剝離方法 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 39 | レジスト剝離剤組成物及びそれを用いたレジスト剝離方法 | 出光興産株式會社 |
| 40 | 防食性フォトレジスト剝離剤組成物 | 出光興産株式會社 |
| 41 | フェニルジケトン誘導(dǎo)體を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 42 | インドール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 43 | レジスト剝離液 | 東ソー株式會社 |
| 44 | レジスト剝離液 | パナソニックＩＰマネジメント株式會社 |
| 45 | ビアリール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。 | 宇部興産株式會社 |
| 46 | レジスト剝離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剝離剤 | 出光興産株式會社 |
| 47 | 剝離用組成物および剝離方法 | 旭硝子株式會社 |
| 48 | 半導(dǎo)體デバイスの剝離液、及び、剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 49 | レジスト用剝離剤組成物及び半導(dǎo)體裝置の製造方法 | ソニー株式會社 |
| 50 | レジスト剝離剤組成物 | 東亞合成株式會社 |
| 51 | フォトレジスト剝離剤組成物 | ナガセケムテックス株式會社 |
| 52 | レジスト剝離剤及びその製造方法 | 出光興産株式會社 |
| 53 | 粒子を含有するレジスト剝離液及びそれを用いた剝離方法 | 富士フイルム株式會社 |
| 54 | フォトレジスト剝離液組成物 | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社 |
天龍製鋸株式會社簡稱“Tenryu”，是由擁有近100年歷史的日本機(jī)械鋸片業(yè)界鼻祖—日本天龍制鋸株式會社。
新素材?高度な切削條件にお応えする製品開発、それが私たちの仕事です。私たちは、１９１３年の設(shè)立以來、常に業(yè)界のパイオニアとして、「切削と加工」をテーマに、歩み続けてまいりました。長年に亙るテクノロジーの蓄積をベースに、獨(dú)自に開発した最新の製造機(jī)械設(shè)備のもと、新たな被削材と高度化するユーザーニーズにお応えする製品を開発しています。天龍製鋸株式會社１００年の歴史、それは限りない切削課題への挑戦の歴史です。
天龍製鋸株式會社主要產(chǎn)品
鉄鋼用
–金屬片鋸非鉄金屬用
– 非鉄金屬用（刃形CBB.D）
– LAQ（刃形D）
木質(zhì)系材料用
– LAQIV
– LAQIII
– NEW LAQ
– LAQ（刃形A）
– LAQ（刃形B.C.D）
– 木質(zhì)系用（刃形A）
– 木質(zhì)系用（刃形B）
– 木質(zhì)系用（刃形C）
その他
– 樹脂用、その他
– 超硬カッター
– 超硬ルーター
金剛石工具
鉆石刀具
金剛石切片機(jī)
金剛石車床
ダイヤモンドソー
HSS工具
金屬鋸
金屬印花
金剛石基板
帯 鋸
丸ナイフ
丸鋸、マイタソー
刃物製品
超硬工具
鉄鋼用
重?軽切削 スローアウェイタイプ
重?軽切削 スローアウェイタイプ
重切削用
重切削用
軽切削用
軽切削用
軽切削用 オートモビル用
軽切削用 オートモビル用
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