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2023年金剛石技術(shù)-----
      《人造金剛石單晶制備技術(shù)資料精選匯編

                     

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              新版《2023人造金剛石單晶制備技術(shù)資料精選匯編》

金剛石單晶材料制備工藝配方,金剛石多晶材料,金剛石開(kāi)發(fā)等國內外著(zhù)名公司、科研技術(shù)工藝匯編

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金剛石砂輪磨具制造工藝配方大全
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大力發(fā)展 高品質(zhì)、高性能金剛石工具


各位讀者:大家好!


             自從我公司2000年推出每年一期的金剛石制品系列新技術(shù)匯編以來(lái),深受廣大企業(yè)的歡迎,在此,我們衷心地感謝致力于創(chuàng )新的新老客戶(hù)多年來(lái)對我們產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)的認同,由衷地祝愿大家工作順利!

   

          用人造金剛石單晶及聚晶制造工具時(shí),大多必須依靠金屬、陶瓷或樹(shù)脂作為粘接載體,因此,金剛石工具的壽命及使用效率除與所選用的金剛石和結合劑有關(guān)外,還取決于金剛石與結合劑的結合強度,但由于金剛石與載體之間在物理和化學(xué)性能上存在巨大差異,使得兩者的結合極為困難。為此,國內外已開(kāi)發(fā)了多種金剛石表面金屬化技術(shù),力求提高金剛石與金屬胎體之間的焊接浸潤性和粘接強度,以延長(cháng)金剛石工具的使用壽命。


         CVD單晶金剛石的主要制備方法包括微波等離子體CVD法(MPCVD)、直流等離子體CVD法、熱絲CVD法(HFCVD)、燃燒火焰CVD法(CFCVD)等。其中我國開(kāi)發(fā)程度最好的是熱絲CVD金剛石設備技術(shù),目前已經(jīng)逐漸開(kāi)始進(jìn)行小規模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn),技術(shù)水平也不遜于國際領(lǐng)先水平;但在MPCVD領(lǐng)域,中國的相關(guān)技術(shù)水平還較為落后,未來(lái)發(fā)展潛力巨大。CVD金剛石憑借其優(yōu)秀性能,在多個(gè)領(lǐng)域中得到了廣泛應用,市場(chǎng)需求增長(cháng)空間巨大。近年來(lái),隨著(zhù)技術(shù)的不斷進(jìn)步,市場(chǎng)需求的持續增長(cháng),我國CVD金剛石行業(yè)市場(chǎng)規模也在穩步擴大,并在未來(lái)仍具備較大發(fā)展潛力。??

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★★★《人造金剛石技術(shù)資料》

《2023人造金剛石單晶制備技術(shù)資料精選匯編》
《2023人造金剛石提純、分選技術(shù)資料精選匯編》
《2023人造金剛石合成工藝技術(shù)資料精選匯編》
《金剛石磨粒表面處理技術(shù)工藝配方精選匯編》
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2024版《人造金剛石單晶制備工藝配方精選匯編》(一)(2020.01-2022.11)

2024版《人造金剛石單晶制備工藝配方精選匯編》(一)(2020.01-2022.11)

       近年,我國超硬材料、磨料磨具新技術(shù)發(fā)展迅猛,涌現出許多優(yōu)秀的新技術(shù)、新成果、優(yōu)秀專(zhuān)利技術(shù),特別專(zhuān)門(mén)從事人造金剛石生產(chǎn)及制品研究機構和磨具磨料生產(chǎn)企業(yè)在科技創(chuàng )新方面取得了巨大的進(jìn)步。為了讓廣大生產(chǎn)企業(yè)、科技人員及時(shí)了解和掌握人造金剛石最新技術(shù)發(fā)展我們特收集整理了本期技術(shù)資料。

 
    
本期所介紹的資料,系統全面地收集了到2020-2022年單晶金剛石的主要制備方法及最新技術(shù)工藝,包括:優(yōu)秀的專(zhuān)利新產(chǎn)品,新配方、新產(chǎn)品生產(chǎn)工藝的全文資料。其中有許多優(yōu)秀的新技術(shù)在實(shí)際應用巨大的經(jīng)濟效益和社會(huì )效益,資料適合創(chuàng )業(yè)人員、企業(yè)工程師、技術(shù)人員、科研院所,需要引進(jìn)技術(shù)合作的單位、新產(chǎn)品研發(fā)愛(ài)好者、已經(jīng)申請專(zhuān)利需要關(guān)注行業(yè)新動(dòng)態(tài)的發(fā)明人、準備申請專(zhuān)利進(jìn)行技術(shù)查重的發(fā)明人等。
通過(guò)對技術(shù)信息的研究分析,可及時(shí)了解和掌握產(chǎn)品的技術(shù)核心,實(shí)現集成創(chuàng )新和模仿創(chuàng )新,引進(jìn)吸收再利用,選擇一條技術(shù)捷徑和制定產(chǎn)品研發(fā)方向。

【資料頁(yè)數】777頁(yè) (大16開(kāi) A4紙)
【項目數量】74項
【資料內容】制造工藝及配方
【交付方式】上海中通(免郵費) 順豐(郵費自理)
【資料價(jià)格】合訂本:1680元(上、下冊 書(shū)籍)
      電子版:1480元(PDF文檔)
【訂購電話(huà)】131-4122-5688   136-4136-0810
【聯(lián)  系  人】  梅 蘭 (女士)


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       近年,我國超硬材料、磨料磨具新技術(shù)發(fā)展迅猛,涌現出許多優(yōu)秀的新技術(shù)、新成果、優(yōu)秀專(zhuān)利技術(shù),特別專(zhuān)門(mén)從事人造金剛石生產(chǎn)及制品研究機構和磨具磨料生產(chǎn)企業(yè)在科技創(chuàng )新方面取得了巨大的進(jìn)步。為了讓廣大生產(chǎn)企業(yè)、科技人員及時(shí)了解和掌握人造金剛石最新技術(shù)發(fā)展我們特收集整理了本期技術(shù)資料。

 
    
本期所介紹的資料,系統全面地收集了到2020-2022年單晶金剛石的主要制備方法及最新技術(shù)工藝,包括:優(yōu)秀的專(zhuān)利新產(chǎn)品,新配方、新產(chǎn)品生產(chǎn)工藝的全文資料。其中有許多優(yōu)秀的新技術(shù)在實(shí)際應用巨大的經(jīng)濟效益和社會(huì )效益,資料適合創(chuàng )業(yè)人員、企業(yè)工程師、技術(shù)人員、科研院所,需要引進(jìn)技術(shù)合作的單位、新產(chǎn)品研發(fā)愛(ài)好者、已經(jīng)申請專(zhuān)利需要關(guān)注行業(yè)新動(dòng)態(tài)的發(fā)明人、準備申請專(zhuān)利進(jìn)行技術(shù)查重的發(fā)明人等。
通過(guò)對技術(shù)信息的研究分析,可及時(shí)了解和掌握產(chǎn)品的技術(shù)核心,實(shí)現集成創(chuàng )新和模仿創(chuàng )新,引進(jìn)吸收再利用,選擇一條技術(shù)捷徑和制定產(chǎn)品研發(fā)方向。

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【項目數量】74項
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【資料價(jià)格】合訂本:1680元(上、下冊 書(shū)籍)
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項目介紹:

1    一種單晶金剛石晶格外延補償方法

       通過(guò)控制在金剛石基片生長(cháng)過(guò)程中,摻入硼源和硅源,以對所述金剛石晶體的基體進(jìn)行表面晶向補償,修復金剛石基體上的表面缺陷,能夠獲得高品質(zhì)的金剛石晶體,同時(shí)提高了金剛石晶體的強度,從而有效解決了現有生成金剛石缺陷率高成品率低的問(wèn)題。

2    北京科技大學(xué)研制;基于側面鍵合拼接生長(cháng)大尺寸單晶金剛石的方法

       屬于金剛石半導體生長(cháng)領(lǐng)域。通過(guò)側面鍵合,對單晶金剛石籽晶進(jìn)行拼接處理,形成馬賽克拼接襯底,并在襯底上外延生長(cháng)CVD金剛石,籽晶結合緊密,可操作性強,襯底拋光后高度差小,表面狀態(tài)相近利于大面積生長(cháng)。

3    一種單晶金剛石的制備方法

       包括以下步驟:準備基板臺,將酸洗后的籽晶清洗干凈、吹干后放入基板臺中,再將基板臺放進(jìn)沉積腔體中刻蝕;刻蝕完成后,通入甲烷,在溫度為850~950℃,進(jìn)行低溫生長(cháng);在溫度為950~1200℃進(jìn)行高溫生長(cháng);生長(cháng)完成后,在高溫生長(cháng)溫度的基礎上再次升溫100~150℃,保溫1~2h,然后冷卻至室溫,得單晶金剛石。制備方法能提升單晶金剛石生長(cháng)面的平整度,減小應力,減緩籽晶邊緣多晶生長(cháng),提高單次生長(cháng)高度,可大批量制備中高品質(zhì)高平整度單晶金剛石。



4    一種用于提高CVD單晶金剛石生長(cháng)數量的單晶金剛石制造方法

       針對現有技術(shù)存在的不足,提出了一種用于提高CVD單晶金剛石生長(cháng)數量的單晶金剛石制造方法,通過(guò)對生長(cháng)過(guò)程加以控制,該方法極大的提高了生產(chǎn)效率,解決了CVD單晶片單次生長(cháng)數量少、效率低的問(wèn)題,為單晶金剛石的工業(yè)化生產(chǎn)提供穩定保障,具有較高的發(fā)展前景和經(jīng)濟價(jià)值。

5    一種大尺寸HPHT金剛石單晶片同質(zhì)外延生長(cháng)方法

       以大尺寸HPHT單晶片作為晶種,采用CVD法同質(zhì)外延生長(cháng),通過(guò)控制生長(cháng)初期的等離子刻蝕條件和CH4的添加方式,并合理設置CH4的添加濃度和保持時(shí)間,大幅度降低了HPHT單晶片表面因缺陷密度高易形成多晶雜質(zhì)的概率,實(shí)現生長(cháng)表面狀態(tài)的順利過(guò)渡,保證了結晶質(zhì)量和生長(cháng)時(shí)間。該方法直接解決大尺寸HPHT單晶片生長(cháng)難度大的難題,而且經(jīng)激光切割和拋光處理后,原HPHT單晶片和分離的CVD單晶片均可用于再次生長(cháng),重復利用率高,也證明了制備的CVD單晶片質(zhì)量良好穩定。

6    一種切割面直接生長(cháng)制備CVD單晶金剛石的工藝

       通過(guò)激光切割精加工的方式降低單晶金剛石的表面粗糙度,并使用CO2在高溫下對切割面進(jìn)行刻蝕,促進(jìn)生長(cháng)表面的“平坦”化,以便取代常規的表面拋光工藝,實(shí)現晶種的直接生長(cháng),提高生產(chǎn)效率。制備CVD單晶金剛石的工藝,采用特殊的工藝方法對生長(cháng)過(guò)程加以控制,省去了拋光處理的過(guò)程,提高了生產(chǎn)效率,為單晶金剛石的工業(yè)化生產(chǎn)提供穩定保障。

7    一種化學(xué)氣相沉積制備單晶金剛石的方法

       對單晶金剛石籽晶進(jìn)行氧等離子體刻蝕,再將光刻膠溶液、有機硼化合物、單晶金剛石籽晶混合,超聲振蕩使其均勻分散得到混合液,使混合液均勻分布于襯底基板上,襯底基板烘干后,將其放入氣相沉積腔室中,將腔室抽真空,啟動(dòng)微波,設定功率和襯底基板溫度后,通入甲烷、氮氣和氫氣,進(jìn)行金剛石生長(cháng),能夠提高所生成單晶金剛石的質(zhì)量和單晶金剛石的生長(cháng)速率,減少多晶點(diǎn)的產(chǎn)生,更有利于金剛石晶體的生長(cháng),提高單晶金剛石表面光滑度,改善表面缺陷。

8    一種MPCVD法生產(chǎn)單晶金剛石的方法

       包括以下步驟:步驟一:關(guān)閉微波等離子體化學(xué)氣相沉積設備;步驟二:將單晶金剛石放至激光雕刻機上,將含有多晶雜質(zhì)的單晶金剛石以設定的層厚自上向下進(jìn)行分層,用激光雕刻機自上向下逐層掃描所在層的多晶雜質(zhì)并聚焦蝕除多晶雜質(zhì),其中,激光雕刻機的焦點(diǎn)在蝕除上一層的多晶雜質(zhì)后相對于單晶金剛石下行所述層厚后繼續掃描并蝕除下層的多晶雜質(zhì),直至將單晶金剛石頂部覆蓋的多晶雜質(zhì)全部蝕除。

9    一種單晶金剛石及其MPCVD制備方法

       包括:提供多個(gè)晶種,各晶種為薄片狀的正多邊形的金剛石籽晶,正多邊形的邊數大于四;將多個(gè)晶種緊密地平鋪在微波等離子體裝置的基片臺上,以鋪滿(mǎn)基片臺的有效生長(cháng)區域;對相鄰晶種之間的接壤區域進(jìn)行刻蝕,以形成凹槽,并在凹槽內形成填充結構;以及采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法在多個(gè)晶種的上表面同質(zhì)外延生長(cháng)多個(gè)單晶金剛石。

10 一種MPCVD單晶金剛石生長(cháng)鉬托及單晶金剛石的生長(cháng)方法

        屬于氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,包括:鉬托底座以及分體的鉬環(huán),鉬環(huán)層疊置于鉬托底座上,且其外表面不凸出于鉬托底座的外表面,鉬環(huán)具有外接于金剛石襯底的通孔。能夠解決金剛石襯底與卡槽側壁的面面接觸導致散熱不均、結碳層難于清理、及金剛石襯底移動(dòng)的問(wèn)題。鉬托結構簡(jiǎn)單,便于操作,在金剛石生長(cháng)過(guò)程中,散熱均勻,成本低廉,便于清潔,解決了在單晶金剛石生長(cháng)時(shí)存在的一系列問(wèn)題,對于研究高質(zhì)量單晶金剛石的生長(cháng)具有重大意義。

11 一種MPCVD法批量生產(chǎn)金剛石單晶的方法

        鉬質(zhì)基片臺,通過(guò)在鉬質(zhì)基片臺背面開(kāi)設環(huán)槽和散熱槽,能夠降低鉬質(zhì)基片臺邊緣部位的散熱效果,顯著(zhù)降低微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石單晶過(guò)程中單晶金剛石籽晶的溫差,使得金剛石單晶批量化正式生長(cháng)中生產(chǎn)效率及生長(cháng)質(zhì)量得到了極大的提高,有較好的工業(yè)應用價(jià)值。

12 哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制;--種MPCVD單晶金剛石拼接生長(cháng)方法

        為了解決拼接單晶金剛石材料接縫難處理、拼接接縫性質(zhì)較差的問(wèn)題。方法一、將多個(gè)單晶金剛石籽晶放置于籽晶托盤(pán)的方形籽晶墊片上;二、通入氫氣并啟動(dòng)微波發(fā)生器產(chǎn)生等離子體;三、向反應艙內通入氧氣和氬氣,保持籽晶溫度為1000?1200℃,進(jìn)行刻蝕處理;四、將預刻蝕處理后的單晶金剛石籽晶刻蝕面朝上放置于生長(cháng)樣品托盤(pán)上;五、通入氫氣并啟動(dòng)微波發(fā)生器產(chǎn)生等離子體;六、促進(jìn)金剛石籽晶邊緣刻蝕臺階區域的橫向生長(cháng)連接,完成單晶金剛石拼接生長(cháng)。

13 一種可重復利用襯底異質(zhì)外延金剛石材料的方法

        包括以MgO襯底為基礎襯底,通過(guò)光刻和刻蝕制備金字塔形狀的MgO襯底,并通過(guò)高溫濺射   將金屬Ir結合,形成Ir/MgO復合襯底,通過(guò)在Ir/MgO復合襯底上完成異質(zhì)外延金剛石的生長(cháng),最后,Ir/MgO復合襯底連同外延金剛石一并從高溫狀態(tài)快速降溫,利用Ir/MgO復合襯底和外延金剛石熱膨脹系數的不同,使二者脫離,以完成異質(zhì)外延金剛石的制備,并達到Ir/MgO復合襯底可重復利用的目的。有助于制備人為可控厚度,表面均勻平坦,可重復利用襯底異質(zhì)外延金剛石材料。

14 一種應用于MPCVD大尺寸金剛石多晶的剝離方法

        將在MPCVD生長(cháng)腔室內制備完成的帶有多晶襯底的金剛石多晶放入激光切割機中進(jìn)行邊緣環(huán)切,將環(huán)切完成的帶有多晶襯底的金剛石多晶再次放入MPCVD生長(cháng)腔室內,開(kāi)機運行多晶生長(cháng)工藝至平穩生長(cháng)階段,此時(shí)保持腔室最大生長(cháng)壓力,保持此階段5~10分鐘,隨后轉入快速降溫停機過(guò)程,此過(guò)程的停機時(shí)間比正常停機時(shí)間縮短50%~60%;生長(cháng)完成的金剛石多晶與多晶襯底完整的分離??捎行嵘齽冸x多晶的完整程度,提高獲得多晶的質(zhì)量。

15 西安電子科技大學(xué)研制;一種單晶金剛石及制備方法

        制備方法在晶面取向均一的多晶金剛石表面即可形核,避免傳統單晶金剛石異質(zhì)外延過(guò)程中形核階段對襯底直流偏壓的需要,且所形成的單晶金剛石晶體取向均一,質(zhì)量較高,從而實(shí)現了與現有設備的兼容,降低了工藝復雜度,提高了成品率。

16 六號元素技術(shù)有限公司;沃里克大學(xué)研制;一種形成金剛石產(chǎn)品的方法 

        提供金剛石材料并且在該材料中形成包含sp2鍵合碳的損傷層。損傷層的存在限定了在損傷層上方并與損傷層接觸的第一金剛石層以及在損傷層下方并與損傷層接觸的第二金剛石層。電化學(xué)刻蝕所述損傷層以便將其與第一層分離,其中在含有離子的溶液中進(jìn)行電化學(xué)刻蝕,該溶液的電導率為至少500μS cm?1,并且其中所述離子能夠在電解期間形成自由基。還描述了金剛石產(chǎn)品。

17 一種金剛石生長(cháng)方法

        生長(cháng)方法包括如下步驟:S1、選取金剛石籽晶,S2、選取陪料,S3、金剛石籽晶轉移,S4、抽真空,S5、金剛石生長(cháng),S6、取出金剛石成品。陪料包圍金剛石籽晶,金剛石籽晶有一部分露出陪料,陪料的導熱率比金剛石低,陪料的存在能減少金剛石生長(cháng)面與非生長(cháng)面之間的溫差,避免金剛石在生長(cháng)過(guò)程中由于局部溫差過(guò)大而產(chǎn)生應力或生長(cháng)出多晶,陪料與金剛石籽晶一起保持振動(dòng)或轉動(dòng),使得金剛石籽晶的不同表面都有機會(huì )接觸包含碳源的等離子體,便于金剛石籽晶在三維方向連續生長(cháng)。

18 一種單晶金剛石的培育方法

        包括對人體頭發(fā)依次進(jìn)行提純、破碎、分散、碳化、除雜、冷凍干燥處理,得到毛發(fā)微粒碳質(zhì);按照質(zhì)量比為的(10~50):1:1000分別稱(chēng)取所述毛發(fā)微粒碳質(zhì)、金剛石籽晶和高純水,然后將稱(chēng)取的所述毛發(fā)微粒碳質(zhì)、金剛石籽晶均勻分散在所述高純水中,形成原料混合液;采用液中放電法對所述原料混合液進(jìn)行處理,在硅襯底上培育單晶金剛石。培育方法有助于消除合成金剛石單晶生長(cháng)過(guò)程中的非晶碳,提高金剛石純度,可最大程度提高金剛石單晶質(zhì)量以及達到金剛石單晶高速率生長(cháng)的效果。

19 一種大尺寸單晶金剛石及其制備方法

        有效解決了由小尺寸單晶金剛石不能直接外延生長(cháng)為大尺寸單晶金剛石以及外延過(guò)程中易產(chǎn)生多晶的問(wèn)題;所制得的制備的到的大尺寸單晶金剛石晶體均勻度高,整體性強。

20 用于含裂紋籽晶的MPCVD單晶金剛石的生長(cháng)方法

        為了解決MPCVD單晶金剛石同質(zhì)外延生長(cháng)方法中含裂紋籽晶生長(cháng)易碎裂問(wèn)題。能夠對缺口側面進(jìn)行有效處理并促進(jìn)橫向生長(cháng),使得含裂紋籽晶也能夠被用于高品質(zhì)單晶生長(cháng),減少了籽晶的浪費并降低了生產(chǎn)成本。

21 一種單晶金剛石生長(cháng)用沉積基底及單晶金剛石的制造方法

單晶金剛石生長(cháng)用沉積基底,結構包括:第一層為帶圖案的硅基底;第二層為過(guò)度層;第三層為金屬銥層。其次,本申請公開(kāi)了單晶金剛石生長(cháng)用基底的預處理方法:a.刻蝕帶圖案的硅基底;b.磁控濺射:過(guò)渡層濺射,濺射厚度為40nm?0.2μm,金屬銥濺射,厚度為50?200nm;c.拋光,對所述金屬銥層進(jìn)行機械拋光,除去凸起部分的金屬銥;d,清洗,依次用丙酮、無(wú)水乙醇、去離子水超聲清洗5?10min。

22 一種金剛石及其合成工藝

        包括選擇表面平整的單晶金剛石作為籽晶,其生長(cháng)表面為(100)面,對生長(cháng)面進(jìn)行拋光處理。S2.對籽晶進(jìn)行清洗處理,然后放入微波等離子體化學(xué)氣相沉積設備腔體中;S3.向腔體通入H2,H2流量為100?1000標準毫升/分鐘,對籽晶進(jìn)行刻蝕;S4.刻蝕完成后,向腔體通入碳源,碳源與H2體積比為1%?12%,進(jìn)行穩定的生長(cháng),每穩定生長(cháng)50?199小時(shí),將碳源濃度降低0.1%?0.5%,其他工藝參數保持不變,可一次性生長(cháng)至目標厚度,保證生長(cháng)出的金剛石產(chǎn)品達到低缺陷密度、光學(xué)性能均勻一致。

23 一種電子級金剛石的制備方法

        包括對金剛石籽晶進(jìn)行微波等離子體刻蝕處理,得到刻蝕預處理籽晶;在所述刻蝕預處理籽晶的(100)面,微波等離子體輔助CVD生長(cháng)單晶金剛石過(guò)渡層;在所述單晶金剛石過(guò)渡層表面微波等離子體輔助CVD生長(cháng)電子級金剛石。的方法采用分步生長(cháng)的方式,首先生長(cháng)出一定厚度的過(guò)渡層單晶金剛石,單晶金剛石過(guò)渡層能夠將由于金剛石籽晶襯底的缺陷修正,再采用微波等離子體輔助CVD生長(cháng)電子級金剛石,最終制備出雜質(zhì)含量低于2ppm的電子級單晶金剛石材料。

24 一種金剛石的生長(cháng)方法

        采用凝聚態(tài)碳源代替氣態(tài)碳源,除了提供初始條件外,在金剛石生長(cháng)過(guò)程中不需要再通入工藝氣體,只需要激發(fā)凝聚態(tài)碳源形成適合金剛石生長(cháng)的等離子體區域;激發(fā)態(tài)的碳源在預先放置的誘導晶種上沉積并同質(zhì)外延生長(cháng)金剛石。該方法拓展碳源取材范圍,節約能源,避免工藝氣體的浪費,便于金剛石的連續生長(cháng)。

25 國立大學(xué)研制法人長(cháng)岡技術(shù)科學(xué)大學(xué)研制;學(xué)校法人早稻田大學(xué)研制;涉及金剛石形成用結構體、及金剛石形成用結構體的制造方法

        提供用于形成高品質(zhì)的單晶金剛石的金剛石形成用結構體、及該結構體的制造方法。金剛石形成用結構體(10)由基底基板(11)和在基底基板(11)上形成的Ir薄膜(12)構成?;谆澹ǎ保保┑臒崤蛎浵禂禐榻饎偸臒崤蛎浵禂档模当兑韵?,并且基底基板(11)的熔點(diǎn)為700℃以上。Ir薄膜(12)的X射線(xiàn)衍射圖案中的峰的角度與基底基板(11)的X射線(xiàn)衍射圖案中的峰的角度不同。

26 一種微波CVD法控制多晶金剛石晶粒尺寸的生長(cháng)方法

        通過(guò)分時(shí)間段逐步提高碳源濃度和氧氣濃度,以階梯性地提高金剛石的形核率來(lái)控制金剛石晶粒尺寸的大小,從而提升金剛石膜的質(zhì)量;同時(shí),還可階梯地提高金剛石膜的生長(cháng)速率,降低外延層的晶格缺陷,從而可減小生長(cháng)應力,獲得完整無(wú)裂紋的金剛石膜。

27 一種提高單晶金剛石質(zhì)量的方法

        包括在生長(cháng)之前,獲取生長(cháng)爐內的漏氣率,并判斷漏氣率的實(shí)測值是否在標準設定區間內,以確定在生長(cháng)過(guò)程中是否通入氮氫混合氣體;當漏氣率的實(shí)測值大于最大標準值時(shí),不通入氮氫混合氣體直至生長(cháng)結束;當漏氣率的實(shí)測值小于最大標準值時(shí),在生長(cháng)開(kāi)始時(shí)向生長(cháng)爐內通入氮氫混合氣體,直至生長(cháng)結束;且隨著(zhù)漏氣率的實(shí)測值在小于漏氣率的最大標準值的區間范圍內的降低,則通入氮氫混合氣體的含量逐漸增加。獲得單晶晶體生長(cháng)機制為階梯式的金剛石,不僅多晶點(diǎn)少且表面光滑、無(wú)小丘且無(wú)缺陷。

28 吉林大學(xué)研制;一種大尺寸單晶金剛石拼接生長(cháng)方法

        首先選?。逼ǎ保埃埃┤∠虻膯尉Ы饎偸鳛橐r底模板,在襯底模板表面生長(cháng)單晶金剛石外延層并切割剝離,重復此操作獲得多片晶體取向嚴格一致的高質(zhì)量單晶金剛石外延片;研磨、拋光、清洗后放入CVD設備中生長(cháng)1~4h,以觀(guān)察樣品表面臺階流生長(cháng)方向;然后將外延片沿臺階流生長(cháng)方向平行的方式進(jìn)行排列,作為拼接襯底,在拼接襯底表面生長(cháng)單晶金剛石外延層,并切割剝離,得到大尺寸高質(zhì)量單晶金剛石。提高了單晶金剛石拼接生長(cháng)的尺寸極限。

29 太原理工大學(xué)研制;一種同質(zhì)/異質(zhì)混合外延生長(cháng)大尺寸單晶金剛石的制備方法

        將小尺寸單晶金剛石晶種邊緣研磨拋光成平直表面;將單晶金剛石晶種放入YSZ單晶晶片襯底槽內,在該襯底表面外延生長(cháng)YSZ單晶薄膜緩沖層;將YSZ單晶薄膜減薄拋光至平整表面并顯露出鑲嵌單晶金剛石晶種和YSZ邊框的復合襯底模板;在復合襯底表面外延生長(cháng)一層銥單晶薄膜,并對銥薄膜處理以形成柵格化復合襯底;最后在柵格化復合襯底表面外延生長(cháng)單晶金剛石。

30 一種金剛石團簇及其制備方法

        該金剛石團簇包括核芯、圍繞所述核芯長(cháng)滿(mǎn)的區域,所述區域包含有從所述核芯向外延伸的多個(gè)金剛石微晶,多個(gè)所述金剛石微晶的截面積隨著(zhù)所述金剛石微晶與所述核芯的距離的增加而增加,所述核芯的微晶數量隨著(zhù)增加。金剛石團簇由生長(cháng)中心粒子,以產(chǎn)生選擇和控制或調整結構的簇的適當選擇可能,金剛石團簇可用于磨料顆粒應用中,例如研磨,鋸切,切割,車(chē)削,銑削,鏜孔或拋光。

31 吉林大學(xué)研制;一種拼接生長(cháng)金剛石單晶的方法

        以金剛石單晶作為籽晶,將2~25片籽晶拼接在一起得到金剛石單晶襯底,在拼接縫處通過(guò)磁控濺射或者真空鍍膜濺射一層銥膜;利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)設備在濺射銥膜的金剛石單晶襯底的表面外延生長(cháng)完整的金剛石單晶外延層,得到金剛石單晶材料,生長(cháng)面為(100)晶面。得到高質(zhì)量的大面積金剛石單晶片。

32 吉林大學(xué)研制;一種生長(cháng)大面積金剛石單晶的方法

        在清洗過(guò)的襯底表面先生長(cháng)一層(100)取向金剛石織構層;對生長(cháng)的(100)金剛石織構層進(jìn)行拋光,用磁控濺射或者真空鍍膜方法在拋光的金剛石織構層上沉積銥納米膜,然后在沉積了銥納米膜的金剛石織構層上繼續生長(cháng),利用金剛石生長(cháng)過(guò)程中的橫向生長(cháng),得到金剛石單晶外延層。解決了金剛石單晶生長(cháng)面積小的問(wèn)題,具有較高的發(fā)展前景跟經(jīng)濟價(jià)值。

33 哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制;提高金剛石異質(zhì)外延形核均勻性的方法

        屬于異質(zhì)外延單晶金剛石制備領(lǐng)域,它為了解決常規BEN工藝下偏置電流水平較低,導致金剛石異質(zhì)外延形核的均勻性較差的問(wèn)題。提高形核均勻性的方法:一、在襯底上沉積Ir薄膜,然后在退火后的復合襯底的背面和側面沉積金膜;二、用直流偏壓增強形核工藝在樣品托上沉積金剛石薄層;三、通入氫氣,激活等離子體,通入甲烷氣體,控制甲烷的體積分數,開(kāi)啟直流偏壓電源,進(jìn)行偏壓增強形核,然后降低甲烷濃度,開(kāi)始進(jìn)行金剛石外延生長(cháng),直至生長(cháng)結束。

34 北京科技大學(xué)研制;一種基于銥?石墨烯結構化緩沖層的單晶金剛石外延生長(cháng)方法

        利用磁控濺射法在金剛石上沉積銥膜,隨后對該金剛石/銥疊層襯底進(jìn)行周期性圖形化處理,再利用磁控濺射法沉積鎳膜以填補非圖形化區域;隨后對金剛石進(jìn)行真空退火,使得金剛石通過(guò)鎳催化作用發(fā)生相變,經(jīng)過(guò)相變形成的碳溶解在鎳中并在其表面形成石墨烯。利用銥?石墨烯復合圖形化結構緩解襯底與金剛石之間的晶格失配及熱膨脹失配,接著(zhù)采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)在偏壓條件下加速金剛石形核并擴展合并,實(shí)現大尺寸高質(zhì)量自支撐單晶金剛石的制備。

35 一種靜態(tài)生長(cháng)單晶金剛石的制備方法

        將籽晶放置入腔體中,在腔體首先通入氫氣充滿(mǎn)腔體,產(chǎn)生等離子體;通入含碳氣源進(jìn)行金剛石的生長(cháng),金剛石生長(cháng)過(guò)程中間斷的通入含碳氣源作為補充,保證腔體維持一定的壓力,籽晶生長(cháng),完成制備。采用氫氣整體充滿(mǎn)腔體,即氫氣作為金剛石反應的催化劑,在腔體內是一定的,甲烷是補充的,甲烷的利用率達到100%。節約成本,合成質(zhì)量大大提高,以往動(dòng)態(tài)過(guò)程中會(huì )混入氣體雜質(zhì),導致純度不夠,現在可以完全避免氣體雜質(zhì)的引入。

36 一種減小單晶金剛石內應力的處理方法

        包括以下步驟:金剛石籽晶的準備;單晶金剛石的生長(cháng)?高溫退火處理:金剛石籽晶進(jìn)行生長(cháng)與高溫退火處理,每生長(cháng)一次后進(jìn)行高溫退火一次,生長(cháng)和高溫退火處理交替進(jìn)行,高溫退火次數為2~5次,直至單晶金剛石生長(cháng)到5.0?5.5mm;單晶金剛石的高溫退火處理條件:高溫退火溫度為1000?2000℃,時(shí)間為30?90min。方法操作簡(jiǎn)單、易于實(shí)現,簡(jiǎn)化了工藝流程,節約時(shí)間和成本,制得的單晶金剛石具有內應力小、表面質(zhì)量以及內部質(zhì)量高、裂紋少以及成品率高的優(yōu)點(diǎn)。

37 吉林大學(xué)研制;一種合成硼氫共摻雜金剛石單晶的方法

        采用高溫高壓溫度梯度法合成金剛石大單晶,自腔體的高溫端向低溫端依次排列碳源(7)、改性觸媒(8)、籽晶(3)和晶床(10);所述改性觸媒(8)由KBH4粉末與NiMnCo金屬觸媒混合而成。減小了硼氫共摻雜金剛石的獲取難度,該方法合成晶體質(zhì)量?jì)?yōu)秀,形狀規則對稱(chēng),并且操作簡(jiǎn)單,成本低,具有可重復性。

38 一種天然金剛石同質(zhì)外延生長(cháng)單晶金剛石的方法

        通過(guò)對天然金剛石基底表面進(jìn)行平整化處理、酸處理、超聲清洗和刻蝕處理,降低天然金剛石基底表面的雜質(zhì)和缺陷,通過(guò)顯微鏡仔細選擇質(zhì)量較高的表面在一定條件下進(jìn)行外延生長(cháng),然后對單個(gè)表面外延生長(cháng)后進(jìn)行斜切,從而形成兩個(gè)較大面積的單晶金剛石表面,然后對這兩個(gè)表面進(jìn)行拼接再次在上述條件下進(jìn)行外延生長(cháng),從而可以在一定程度上保障金剛石的外延生長(cháng)速率,提高天然金剛石基底的外延生長(cháng)質(zhì)量。

39 哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制;利用固態(tài)碳源的無(wú)氣流MPCVD單晶金剛石生長(cháng)方法

        要解決現有MPCVD法單晶金剛石生長(cháng)工藝中需要消耗大量高純氫氣,碳源利用率較低的問(wèn)題。單晶金剛石生長(cháng)方法:一、清洗金剛石籽晶;二、將單晶金剛石籽晶放置于樣品臺中心的樣品托上,將固態(tài)碳源放置于單晶金剛石籽晶的四周;三、將反應艙內抽真空,隨后通入高純氫氣,并升高氣壓與微波功率;四、在無(wú)氣流穩定生長(cháng)過(guò)程中,采用光譜儀對反應艙內的等離子體進(jìn)行監控,通過(guò)調節微波功率來(lái)調節固態(tài)碳源表面的溫度;五、結束生長(cháng)。

40 普拉斯瑪比利提有限責任公司研制;一種通過(guò)多晶金剛石生長(cháng)輔助的生長(cháng)單晶金剛石以提高單晶金剛石的尺寸和品質(zhì)的方法

        包括將金剛石籽晶熱配合在基材支架的頂表面上,其提供用于單晶金剛石和多晶金剛石的組合的生長(cháng)表面。在加工期間所述金剛石籽晶和所述基材支架之間的預定溫度差連同等離子體工藝條件導致單晶金剛石生長(cháng)速率與多晶生長(cháng)速率相差預定量。引入工藝氣體,和形成等離子體以在所述生長(cháng)表面上生長(cháng)單晶金剛石和多晶金剛石兩者,使得多晶金剛石保護正在生長(cháng)的單晶金剛石的側表面,改善跨正在生長(cháng)的單晶金剛石的生長(cháng)品質(zhì)。

41 住友電氣工業(yè)株式會(huì )社研制;一種包含氮的合成單晶金剛石

        在X射線(xiàn)吸收精細結構光譜中,3/4值全寬為3eV以上的能量405±1eV處的峰的強度I405與能量412±2eV處的峰的強度I412的比I405/I412低于1.5。

42 六號元素技術(shù)有限公司;制造CVD合成金剛石材料的方法

        該方法包括提供基本上不含第二相的由壓實(shí)的非交互生長(cháng)的金剛石顆粒組成的壓實(shí)的金剛石載體材料,和在該壓實(shí)的金剛石載體材料的表面上生長(cháng)CVD合成金剛石材料。還描述了由該方法制備的復合金剛石體。

43 六號元素技術(shù)有限公司;單晶CVD金剛石材料

        包含至少5ppm的總氮濃度和至少0.7的中性單一替位氮Ns0與總單一替位氮Ns之比。盡管氮的濃度相對高,但觀(guān)察到這樣的金剛石具有相對少量的棕色著(zhù)色。還公開(kāi)了制造單晶金剛石的方法,該方法包括在工藝氣體中生長(cháng)CVD金剛石,所述工藝氣體除含碳氣體和氫之外還包含60至200ppm氮,其中含碳氣體中的碳原子與氫氣中的氫原子之比為0.5至1.5%。

44 西安交通大學(xué)研制;一種自適應協(xié)同外延生長(cháng)單晶金剛石輔助環(huán)

        用于設置在單晶金剛石襯底外圍一周,為異質(zhì)外延結構,包括:自下而上逐層分布的非金剛石襯底、異質(zhì)外延形核緩沖層和單晶金剛石形核層;單晶金剛石形核層的晶向與待生長(cháng)的單晶金剛石面的晶向一致。利用金剛石輔助環(huán)與同質(zhì)外延單晶金剛石協(xié)同生長(cháng),提高同質(zhì)外延單晶金剛石生長(cháng)質(zhì)量。

45 武漢大學(xué)研制;一種微波等離子體?磁控濺射復合氣相沉積原位制備100面金剛石的方法及設備

        使用研磨拋光好的單晶硅或鉭酸鉀襯底,使用反應或惰性氣體等離子體刻蝕硅襯底上表面無(wú)機物和表面缺陷;再使用磁控濺射一層2um的Ir緩沖層并形成碳元素的SP3鍵促進(jìn)金剛石薄膜生長(cháng);接著(zhù)開(kāi)始金剛石100面偏壓增強形核;開(kāi)始異質(zhì)外延金剛石生長(cháng)。提高金剛石制備效率及制備質(zhì)量。

46 哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制;基于復合結構樣品臺提高金剛石異質(zhì)外延大尺寸形核均勻性的方法

        為了解決現有難以實(shí)現異質(zhì)襯底大尺寸高密度外延形核的難題。提高金剛石異質(zhì)外延形核均勻性的方法:一、將復合結構樣品臺放置在MPCVD設備的水冷臺中心位置,異質(zhì)襯底放置在樣品臺的中心位置,抽真空;二、啟動(dòng)微波發(fā)生器,激發(fā)氣體電離和解離;三、偏壓增強形核過(guò)程:通入甲烷氣體,進(jìn)行等離子體預處理,然后啟動(dòng)偏壓電源施加偏壓;四、降低甲烷濃度,進(jìn)行金剛石外延生長(cháng),直至沉積生長(cháng)結束。

47 一種用于大尺寸單晶金剛石拼接生長(cháng)工藝

       適用于微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法(MPCVD)外延生長(cháng)單晶金剛石,通過(guò)可微米級的榫接縫隙技術(shù),使單晶金剛石生長(cháng)過(guò)程中的應力弛豫,提高生長(cháng)效果。利用榫接、邊緣處理、高度差處理等工藝實(shí)現大尺寸單晶金剛石的拼接生長(cháng),獲得的大尺寸單晶金剛石具有平整度高,拼接部位應力小等優(yōu)點(diǎn),可以獲得高品質(zhì)、大尺寸的單晶金剛石。

48 一種快速合成多晶金剛石的生產(chǎn)工藝和生產(chǎn)設備

        涉及金剛石生產(chǎn)的技術(shù)領(lǐng)域,包括合成塊液壓、合成塊砸碎、電解、球磨、酸堿洗和清洗烘干等步驟,以及合成多晶金剛石的部分生產(chǎn)設備包括電解清洗設備和酸堿洗設備,制備方法簡(jiǎn)單,制備過(guò)程簡(jiǎn)潔明了,適合大規模推廣,同時(shí)在電解的過(guò)程中方便工作人員將多晶金剛石顆粒取出,提高工作效率。

49 河南工業(yè)大學(xué)研制;大連理工大學(xué)研制;一種提高高溫高壓合成寶石級金剛石氮含量的新方法

        以碳氮氫化合物為原料,采用熔鹽輔助的方法將碳氮氫化合物轉變成含C?N化學(xué)鍵的氮化碳粉末;以氮化碳粉末為原料或作為添加劑,金屬合金粉作為觸媒,采用傳統的六面頂壓機,通過(guò)溫度梯度法合成高氮含量的寶石級金剛石單晶。采用氮化碳材料作為碳源或添加劑,氮是以化學(xué)鍵的形式存在于碳源或添加劑中,利用高溫超高壓條件,可獲得大量的NV色心;加氮化碳系材料,不僅可以提供氮含量,還可以作為碳源,不會(huì )引入其他雜質(zhì)。

50 鄭州大學(xué)研制;一種光學(xué)級金剛石晶片的制備方法

        通過(guò)使用具有凹槽的金屬鉬使得旋涂籽晶更容易附著(zhù)、生長(cháng)的金剛石與襯底結合更加緊密。使用不同晶粒尺寸的籽晶,分多次進(jìn)行籽晶旋涂,得到的籽晶分布均勻,有利于金剛石的均勻生長(cháng),減小所得到金剛石中的晶界,因此更容易得到光學(xué)級金剛石。生長(cháng)條件控制在一定范圍是得到光學(xué)級金剛石的必要條件,調控好生長(cháng)過(guò)程中的溫度、壓強、微波功率及甲烷濃度等條件,對生長(cháng)高品質(zhì)光學(xué)級金剛石非常重要。

51 單晶金剛石外延生長(cháng)方法

        單晶金剛石及其片狀籽晶。包括S1.片狀籽晶具有進(jìn)行生長(cháng)的頂面、與頂面相對的底面以及位于頂面與底面之間的側面,側面從底面到頂面向內傾斜地延伸;S2.將片狀籽晶頂面朝上地設置在氣相合成設備的基臺上,然后采用氣相合成法在片狀籽晶上進(jìn)行同質(zhì)外延生長(cháng)。采用側面為傾斜面的片狀籽晶進(jìn)行外延生長(cháng),使得外延生長(cháng)較為容易,且生長(cháng)時(shí)不易產(chǎn)生多晶,此外,由于生長(cháng)后得到的單晶金剛石的側面仍為傾斜面,因此可以在一次外延生長(cháng)后再進(jìn)行多次外延生長(cháng),從而獲得較大尺寸的單晶金剛石。

52 一種利用缺陷和雜質(zhì)改進(jìn)單晶金剛石晶種外延生長(cháng)的方法

        適用于微波等離子體化學(xué)氣相沉積方法(CVD)外延生長(cháng)單晶金剛石,包括步驟:步驟一、確定單晶金剛石表面的雜質(zhì)和缺陷濃度。步驟二、進(jìn)行雜質(zhì)和缺陷處理。步驟三、進(jìn)行表面氫化處理。步驟四、進(jìn)行高速外延生長(cháng)。能夠利用內部缺陷和雜質(zhì)含量高的單晶金剛石的品質(zhì)缺點(diǎn),提高外延金剛石的生長(cháng)速率,改進(jìn)產(chǎn)品質(zhì)量。

53 一種金剛石的制備方法

        屬于金剛石合成技術(shù)領(lǐng)域。包括將碳源柱在六面頂壓機的合成腔體中進(jìn)行高溫高壓處理合成金剛石,高溫高壓處理包括依次進(jìn)行的第一生長(cháng)階段、過(guò)渡階段和第二生長(cháng)階段,第一生長(cháng)階段、過(guò)渡階段和第二生長(cháng)階段的溫度均為1200~1300℃且壓力均為5.5~7GPa,其中,第一生長(cháng)階段和第二生長(cháng)階段的加熱功率分別保持不變,過(guò)渡階段的加熱功率以2~5w/h的速度提高,過(guò)渡階段的加熱功率每提高2~5w時(shí)控制合成腔體的上下溫差降低1~3℃。能夠制備出塔尖收尾的金剛石,有效提高了金剛石毛坯的利用率和成品規格。

54 一種生產(chǎn)純化單晶金剛石的方法,

將人體頭發(fā)粉碎后擠壓成人體頭發(fā)細棒,人體頭發(fā)細棒的直徑為0.5?1.5mm;人體頭發(fā)細棒置于電弧陽(yáng)極中,電弧陽(yáng)極為中空形狀;氫氣從氫氣瓶通入放置于金屬腔室內的電弧陰極中;利用電弧放電將通入氫氣變成氫等離子體,使人體頭發(fā)細棒氣化轉變?yōu)闅怏w混合物;將氣體混合物中的氮氫化物、硫化物、水汽雜質(zhì)氣體去掉,得到體積純度為99.999%的碳氫化合物氣體;該發(fā)明能夠將人體頭發(fā)中的碳轉變?yōu)榻饎偸?br/>
55 一種低應力金剛石及其制備方法

        相比現有技術(shù)而言步驟簡(jiǎn)單,方便大規模的處理成品單晶金剛石,特別適用于厚度較厚的單晶金剛石產(chǎn)品;采取梯度降溫法,極大地避免了高溫環(huán)境下對金剛石產(chǎn)品的內應力沖擊,使得內部晶體結構逐漸重新排列,達到去應力的目的;恰當的溫度控制和速率控制,在確保了金剛石產(chǎn)品內應力能獲得有效改善的基礎上,保障了處理效率,適用于工業(yè)化生產(chǎn)。

56 制備多孔單晶金剛石的方法

        將金剛石晶種作為生長(cháng)基體,金剛石粉晶和金屬觸媒粉的混合物包裹金剛石晶種后密封成型,在處于金剛石穩定區的高溫高壓條件下,金剛石粉晶在熔態(tài)觸媒環(huán)境中通過(guò)調整晶向,以金剛石晶種作為基體進(jìn)行定向附著(zhù)生長(cháng),金屬觸媒降低晶體生長(cháng)所需的溫度與壓力條件,為金剛石粉晶的定向附著(zhù)提供合適的環(huán)境,增加金剛石的生長(cháng)速率。

57 西南科技大學(xué)研制;一種基于摻硼過(guò)渡層的CVD同質(zhì)外延金剛石大單晶的分離方法

        在金剛石單晶襯底表面先沉積一層摻硼金剛石膜,再在其上外延生長(cháng)大尺寸金剛石單晶,使產(chǎn)品局部具有導電性,在外延大尺寸金剛石單晶與襯底的電火花線(xiàn)切割加工中,摻硼過(guò)渡層既是放電區,也是分離消耗區,實(shí)現線(xiàn)切割技術(shù)對CVD同質(zhì)外延金剛石大單晶的加工分離。

58 一種異形表面形貌金剛石單晶及其制造方法

        通過(guò)金剛石單晶的異形表面形貌與金屬鍍層的牢固結合提高了金剛石與金屬結合劑把持力,通過(guò)優(yōu)化配方和合成工藝提高了金剛石的轉化率和內部品質(zhì)形成優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,能增強金剛石與結合劑之間的結合力及材料合成效率,改善金剛石類(lèi)磨削工具鋒利度和加工效率。

59 北京科技大學(xué)研制;一種在單晶金剛石表面獲得自由原子層的方法

        通過(guò)在單晶金剛石拋光表面鍍覆溶碳薄膜,進(jìn)行高溫熱處理等步驟,去除了單晶金剛石拋光表面的損傷層,解決了現有拋光工藝導致單晶金剛石表面產(chǎn)生亞損傷的問(wèn)題,可應用于大尺寸單晶金剛石獲得均勻無(wú)損傷層的原子級平坦表面,有助于單晶金剛石材料在半導體器件領(lǐng)域的進(jìn)一步發(fā)展。

60 一種氮摻雜CVD金剛石激光晶體

        包括CVD金剛石晶體、增透膜和反射膜,增透膜鍍在CVD金剛石晶體的前表面,反射膜鍍在CVD金剛石晶體的后表面,增透膜由氟化鎂薄膜、二氧化鉿薄膜和二氧化鈦薄膜疊加構成,該氮摻雜CVD金剛石激光晶體,有效解決了CVD金剛石激光晶體難獲得637nm激光的問(wèn)題。

61 武漢大學(xué)研制;一種大尺寸單晶金剛石生長(cháng)方法及生長(cháng)用復合基底

        能夠生長(cháng)得到高質(zhì)量、大尺寸的單晶金剛石。

62 一種生長(cháng)金剛石單晶用樣品托及金剛石單晶生長(cháng)方法

        通過(guò)擰動(dòng)外螺紋擰入內螺紋的位置,實(shí)現內托相對外托的位置調整,以維持內托上面的溫度,從而更好地滿(mǎn)足金剛石單晶的生長(cháng)溫度,有效抑制多晶生成;本發(fā)明的生長(cháng)方法,通過(guò)采用高度可調節的樣品托,有利于防止在MPCVD法生長(cháng)一定厚度金剛石單晶時(shí),多晶的生成,可通過(guò)多次、長(cháng)時(shí)間生長(cháng),得到大厚度、高質(zhì)量及均勻性好的單晶金剛石。

63 一種低成本、大尺寸、高品質(zhì)單晶金剛石及其制備方法和應用

        具體地,所述單晶金剛石具有低成本、大尺寸、高品質(zhì)、高純度、高硬度的特點(diǎn),可有效擴大單晶金剛石的應用范圍。

64 北京科技大學(xué)研制;一種高質(zhì)量大尺寸單晶金剛石外延生長(cháng)的方法

        為進(jìn)一步實(shí)現金剛石基半導體器件提供材料制備基礎。即通過(guò)在高光潔度的大尺寸馬賽克拼接單晶金剛石自支撐襯底上沉積金屬保過(guò)渡層和依薄層。并采用化學(xué)氣相沉積的方法在金屬依表面經(jīng)過(guò)預沉積無(wú)定型碳薄層和后續純氫刻蝕以及最后調節甲:院通量實(shí)現依薄層的單一取向晶化及金剛石的原位形核生長(cháng),高效地通過(guò)異質(zhì)外延的方法得到高質(zhì)量大尺寸單晶金剛石。

65 北京科技大學(xué)研制;一種大尺寸單晶金剛石異質(zhì)外延生長(cháng)的方法

        避免了高溫原位沉積晶化過(guò)程中的位錯延伸。隨后再次沉積一層依薄膜,進(jìn)一步屏蔽位錯擴展和消除界面夫配效應,以其作為單晶金剛石外延生長(cháng)的高質(zhì)量形核生長(cháng)界面。最終通過(guò)化學(xué)氣相沉積的方法實(shí)現依薄膜的動(dòng)態(tài)單一取向晶化的同時(shí)在其表面實(shí)現大尺寸單晶金剛石的原位形核和生長(cháng)。


66 法國索泰克公司研制一種用于生產(chǎn)金剛石或銥材料的單晶層的方法,

        其包括將SrTiO3材料的單晶晶種層轉移到硅材料的載體襯底,隨后外延生長(cháng)所述金剛石或銥材料的單晶層。

67 一種生產(chǎn)單晶金剛石的方法,

        能夠將各單晶金剛石生長(cháng)時(shí)的溫度差異控制在一定范圍內,使各單晶金剛石生長(cháng)時(shí)的溫度更加均勻。

68 一種CVD單晶金剛石籽晶和生長(cháng)層的分離方法,

        先對結合體的籽晶面進(jìn)行預處理,再分別采用單向和雙向激光切割法切除結合體外表面上的多晶,然后對結合體的生長(cháng)層面進(jìn)行拋光、清洗,接著(zhù)采用雙向激光切割法分離籽晶和生長(cháng)層,最后分別對籽晶和生長(cháng)層進(jìn)行拋光、清洗,得到分離的籽晶和生長(cháng)層。采用雙向激光切割法分離籽晶和生長(cháng)層,相比現有的單向重復切割法能夠節?。常啊担埃サ臅r(shí)間。采用雙向激光切割法相向切割兩次即可實(shí)現籽晶和生長(cháng)層的分離,相比現有的單向重復切割法可降低0.1~0.3mm厚度的單晶損耗。

69 吉林大學(xué)研制一種異形{111}籽晶合成金剛石單晶的方法

        屬于晶體生長(cháng)中的金剛石單晶生長(cháng)的技術(shù)領(lǐng)域。主要步驟包括獲取籽晶、確定合成工藝參數、組裝腔體、高溫高壓合成金剛石等。本發(fā)明步驟簡(jiǎn)單、可重復性高,使用非常規的籽晶依然能夠得到常規的金剛石晶體,使籽晶的獲取難度大大降低,合成的金剛石晶體質(zhì)量良好,且根據需要可以生長(cháng)成不同形貌的金剛石。

70 一種高質(zhì)量金剛石生長(cháng)方法和系統。一種高質(zhì)量金剛石生長(cháng)方法,

        能夠無(wú)需選擇高質(zhì)量的金剛石片作為籽晶,降低了籽晶的成本,新生長(cháng)的金剛石以層狀進(jìn)行生長(cháng),并且金剛石表面缺陷進(jìn)行修補,降低表面缺陷數量,同時(shí)并未降低金剛石的生長(cháng)速率,仍然維持在高的生長(cháng)速率,不低于8μm/h。

71 一種采用納米結構制備高質(zhì)量金剛石單晶的二次外延方法,

        生長(cháng)步驟是選用高溫高壓金剛石作為籽晶;對籽晶表面缺陷和損傷刻蝕預處理;控制反應室壓力,微波功率,溫度,甲烷濃度以及生長(cháng)時(shí)間,首次外延2~40μm厚度金剛石薄膜層;電子束蒸發(fā)蒸鍍約4~40nm厚度金屬Ni薄膜層;高溫熱處理獲得金屬納米顆粒圖形;等離子刻蝕獲得金剛石納米顆粒圖層;控制反應室壓力,微波功率,溫度,甲烷濃度以及生長(cháng)時(shí)間,二次外延5?200μm厚度金剛石薄膜。有效抑制金剛石薄膜內缺陷的延伸、降低缺陷密度、提高晶體表面的平整度。

72 金剛石制造領(lǐng)域,一種金剛石生長(cháng)托盤(pán)和系統。

        相較于現有技術(shù),具有以下效果:通過(guò)新設計的籽晶托盤(pán),可以維持籽晶表面的等離子體分布及電場(chǎng)分布在最佳狀態(tài),保證金剛石籽晶生長(cháng)環(huán)境穩定,降低表面生長(cháng)缺陷數量,最終合成出高質(zhì)量的單晶金剛石片;通過(guò)新設計的籽晶托盤(pán),可以使籽晶托盤(pán)邊緣碳黑等雜質(zhì)生長(cháng)速率顯著(zhù)降低,保證單次穩定生長(cháng)時(shí)間更長(cháng),可以一次性生長(cháng)更厚的產(chǎn)品,提高生產(chǎn)效率。

73 一種帶懸臂結構金剛石及其制備方法,

        方法包括:在金剛石表面沉積非金屬材料;對金剛石結構表面進(jìn)行磨平、拋光處理;在光滑金剛石結構制備掩膜層,然后在掩膜層金剛石面生長(cháng)金剛石;然后激光切割、磨拋;并去除掩膜層及填充材料,得到懸臂結構金剛石。制備方法制備的懸臂結構金剛石,應用于芯片中,具有非常高的靈敏度和可靠性。

74 西安交通大學(xué)研制一種可吸附拼接生長(cháng)大面積單晶金剛石的方法,

        解決了現有拼接過(guò)程中,容易使得樣品在生過(guò)程中的相對位置發(fā)生改變,甚至樣品翹曲的問(wèn)題。


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