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金剛石研磨液、拋光劑制備工藝配方精選匯編
《金剛石研磨液、研磨拋光膏、金剛石拋光液配方技術(shù)專(zhuān)集》

一、資料收錄國際、國內金剛石切削刀具制備技術(shù)和工藝及產(chǎn)品應用

    新技術(shù)、信息量大,配方全,是金剛石生產(chǎn)與研制、應用廠(chǎng)家提

    高產(chǎn)品質(zhì)量,新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)必備資料

一、資料收錄國際、國內金剛石鉆探工具制備技術(shù)和工藝及產(chǎn)品應用

    新技術(shù)、信息量大,配方全,是金剛石生產(chǎn)與研制、應用廠(chǎng)家提

    高產(chǎn)品質(zhì)量,新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)必備資料

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《金剛石工具制造工藝配方大全》 國際新技術(shù)資料網(wǎng)

   大力發(fā)展 高品質(zhì)、高性能金剛石研磨制品


各位讀者:大家好!

       自從我公司2000年推出每年一期的金剛石制品系列新技術(shù)匯編以來(lái),深受廣大企業(yè)的歡迎,在此,我們衷心地感謝致力于創(chuàng )新的新老客戶(hù)多年來(lái)對我們產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)的認同,由衷地祝愿大家工作順利!

   

         金剛石研磨膏是由金剛石微粉磨料和膏狀結合劑制成的一種軟質(zhì)磨具,也可稱(chēng)為松散磨具。它用于研磨硬脆材料以獲得高的表面光潔度。金剛石拋光液包括聚晶、單晶和納米3種不同類(lèi)型的拋光液。金剛石拋光液由優(yōu)質(zhì)金剛石微粉、復合分散劑和分散介質(zhì)組成,配方多樣化,對應不同的研拋過(guò)程和工件,適用性強。產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質(zhì)量穩定,廣泛用于硬質(zhì)材料的研磨和拋光。 


    多晶金剛石研磨液:精選的多晶金剛石磨料,在高硬度晶片的加工中可實(shí)現很高的切削力及良好的表面加工效果,多種載體可適用于不同的加工領(lǐng)域;單晶金剛石研磨液:精選的顆粒形狀,嚴格的粒度控制,針對不同應用的獨特配方設計;產(chǎn)品廣泛用于硅片、化學(xué)物晶體、光學(xué)器件等的研磨和精密拋光;寶石、金屬的研磨和精密拋光;液晶面板、藍寶石襯底等的研磨和精密拋光。


??? 本期所介紹的資料,系統全面地收集了到2017年金剛石研磨制品制造最新技術(shù)配方,包括:優(yōu)秀的專(zhuān)利新產(chǎn)品,新配方、新產(chǎn)品生產(chǎn)工藝的全文資料。其中有許多優(yōu)秀的新技術(shù)在實(shí)際應用巨大的經(jīng)濟效益和社會(huì )效益,這些優(yōu)秀的新產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝、技術(shù)配方非常值得我們去學(xué)習和借鑒。

《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》

金剛石研磨液、研磨拋光膏、金剛石拋光液國內外著(zhù)名公司、科研院校技術(shù)

【資 料 內 容】金剛石研磨液、拋光劑制備配方精選匯編

【資料形式一】紙質(zhì)合訂本(共823頁(yè),含上下冊)

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Q01.《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》


       金剛石研磨液以金剛石為磨料,具有磨削作用的液體。金剛石配制成研磨液使用,既可以提高磨削速率,又可以將磨削過(guò)程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走,從而避免工件表面被燒傷.聚晶金剛石研磨液有著(zhù)極高的磨削速率和高質(zhì)量的加工表面,因此被廣泛用于對藍寶石襯底的減薄和拋光。目前隨著(zhù)LED行業(yè)的快速發(fā)展,聚晶金剛石研磨液的需求也與日俱增。


       金剛石研磨液也可以分為單晶金剛石研磨液、聚晶金剛石研磨液和納米金剛石研磨液。金剛石研磨液按照分散介質(zhì)區分目前廣泛使用的金剛石研磨液的分散介質(zhì)有以下三種:水性分散介質(zhì)、油性分散介質(zhì)和通用型介質(zhì)(乳液型介質(zhì))。使用時(shí)應當根據具體的使用條件來(lái)選擇合適的研磨液。

    

       人造金剛石研磨膏是用精選優(yōu)質(zhì)金剛石微粉磨料和膏狀結合劑,著(zhù)色劑,防腐劑,香精等制成的一種軟磨膏, 適用于玻璃、陶瓷,寶石,硬質(zhì)合金等高硬度材料制品的量具、刃具光學(xué)儀器及其他高光潔度工件的研磨,拋光加工。也適用于上述材料制成的難以用砂輪工具加工的異型工件。產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質(zhì)量穩定。膏體分水溶和油溶兩種,具有很好的潤滑和冷卻性能。金剛石微粉強度高,粒度均勻磨削效果好。

       隨著(zhù)我國各大科研院所和生產(chǎn)單位的不斷研發(fā)和技術(shù)積累,國內金剛石研磨材料的配方技術(shù)、制造工藝已經(jīng)達到國際先進(jìn)水平。為了讓生產(chǎn)企業(yè)及時(shí)掌握國內外新技術(shù)發(fā)展、制造、工藝配方資料情報,做好新技術(shù)產(chǎn)品優(yōu)化和開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品工作,北京恒志信科技發(fā)展公司組織有關(guān)專(zhuān)家收集整理的本篇新技術(shù)匯編專(zhuān)集。本篇是為了配合國家產(chǎn)業(yè)政策向廣大企業(yè)、科研院校提供的我國及國外最新金剛石研磨拋光材料制備技術(shù)工藝配方專(zhuān)利匯編技術(shù)資料。


      資料中每個(gè)項目包含了最詳細的技術(shù)制造資料,現有技術(shù)問(wèn)題及解決方案、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝、配方、產(chǎn)品性能測試,對比分析。資料信息量大,實(shí)用性強,是從事新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、參與市場(chǎng)競爭的必備工具。資料分為為精裝合訂本和光盤(pán)版,內容相同,用戶(hù)可根據自己需求購買(mǎi)。歡迎新老客戶(hù)選購。特快專(zhuān)遞郵寄。資料分為上、下兩冊,A4紙大,共823頁(yè)現貨發(fā)行,歡迎訂購!

【資 料 內 容】金剛石研磨液(膏)、拋光劑工藝配方

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                   《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》

 金剛石研磨液、研磨拋光膏、金剛石拋光液 日本、美國及國內外著(zhù)名公司、科研院校優(yōu)秀配方新技術(shù)制備方法


 內容描述

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1     藍寶石、碳化硅晶體硅溶膠拋光液添加劑配方制備技術(shù)

         解決了現有硅溶膠、鋁溶膠等拋光液在拋光高硬度材料時(shí)去除率偏低、加工時(shí)間長(cháng)等問(wèn)題,也避免了高濃度納米金剛石拋光液的使用,

         在大幅度提高去除率、擴大應用范圍的同時(shí)降低生產(chǎn)成本,縮短藍寶石等硬脆材料的加工時(shí)間,加工材料表面粗糙度達到較高的標準........1


2     金屬拋光用復合金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         復合拋光液在金屬拋光中可顯著(zhù)提高拋光效率,防止磨料在金屬工件表面產(chǎn)生鑲嵌,提高工件亮度,減少了下一道工序的處理難度,

         適合推廣使用,解決現有技術(shù)拋光效率相對較低,亮度相對較低,可能產(chǎn)生磨料在工件表面的鑲嵌。不能滿(mǎn)足使用的要求問(wèn)題...........8


3     磨料持續懸浮的水性金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         解決水性金剛石研磨液中,金剛石磨料由于自身重力、在短時(shí)間會(huì )很快的沉降聚集于容器底部。研磨液在使用之前,通常需要作再搖

         處理,使得容器瓶底部己沉聚的金剛石磨料再分散開(kāi),工藝繁瑣,費時(shí)費力,這一處理過(guò)程降低了磨液的使用便利性的問(wèn)題...........19


4      精密超精密研磨加工技術(shù)研磨液用金剛石磨料配方制備技術(shù)

         提高研磨液的加工效率,改善工件表面加工質(zhì)量。針對研磨加工過(guò)程中,磨料中的粗粒度與細粒度顆粒能同時(shí)發(fā)揮磨削作用,避免常

         規金剛石磨料因吸附架橋效應而造成的工件表面劃傷問(wèn)題........................................26


5     表面超精研磨技術(shù)領(lǐng)域涉及油性金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         該研磨液由金剛石微粉、軟化劑、螯合劑、表面活性劑以及烷烴類(lèi)溶劑組成。改性金剛石微粒分散性能好,長(cháng)久穩定,軟化劑具有軟

         化金屬表面氧化膜效果,研磨效率高,螯合物能防止研磨下來(lái)的金屬再附著(zhù)金屬表面,研磨精度高......................33


6     水包油乳化型金剛石超精密研磨液配方制備技術(shù)

         具有水性研磨液良好的冷卻性、清洗性以及油性研磨液優(yōu)越的潤滑性,解決研磨液冷卻性的不足會(huì )使得絕大部分磨削熱聚集于工件表

         面并引起溫度異常升高現象,導致工件發(fā)生一定的熱變形:研磨液清洗性不足會(huì )使得工件表面殘留物不易清洗干凈的問(wèn)題............39


7     納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制方法

         可使納米金剛石拋光液中磨料平均粒徑在30~300nm之間可調,解決了目前納米金剛石拋光液中分級過(guò)程比較復雜,磨料粒徑

         不易控制,分級效率低的問(wèn)題。進(jìn)行粒徑控制后的產(chǎn)品性能穩定,平均粒徑可穩定在三個(gè)月以上不發(fā)生團聚,可應用于不同的拋光環(huán)

         境,獲得不同的加工效果......................................................46


8     超精密拋光液中納米金剛石團聚體形貌修整方法

         用于藍寶石晶片拋光加工的納米金剛石拋光液。要克服因納米金剛石團聚體形貌不規則造成拋光質(zhì)量下降的缺陷,在拋光加工過(guò)程中

         易對被加工件產(chǎn)生不利影響,如帶來(lái)微小的劃痕,降低被加工工件的表面質(zhì)量等問(wèn)題,與修整前相比表面粗糙度大大降低,可直接用

         于藍寶石晶片的拋光加工......................................................55


9     泵體法蘭密封面加工用納米金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         解決泵體密封面的研磨多采用機械研磨方式,為了增強研磨效果在研磨過(guò)程中需要使用研磨液。而大多數研磨液雖然具有研磨效率高、

         效果好的特點(diǎn),但研磨后的鑄件尺寸變小,并且易發(fā)生返銹現象.....................................63


10 研磨精度高體法蘭密封面加工用多晶金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         解決研磨后的鑄件尺寸變小,并且易發(fā)生返銹現象的問(wèn)題。能夠有效防止或減緩泵體法蘭密封面研磨后發(fā)生腐蝕,提高密封性能:原

         料中不含污染性大的化學(xué)物質(zhì),使用后的研磨液處理簡(jiǎn)單,有利于保護環(huán)境。對設備的要求較低,能耗低,適合工業(yè)化生產(chǎn)...........68


11 日本優(yōu)秀技術(shù):針對藍寶石基板之類(lèi)的高硬度和高脆性材料研磨液配方、研磨方法

         能夠提高研磨速率的金剛石研磨組合物、和使用該研磨組合物的基板研磨方法,是一種適合于發(fā)光二極管用的藍寶石基板、功率半導

         體器件用的SiC基板 、AIN基板等的鏡面研磨工序的研磨劑制備技術(shù)................................73


12 高效金剛石噴霧拋光劑的復配制備技術(shù)

         針對紙張的浪費、使用成本高、耗時(shí)時(shí)間長(cháng)、拋光效率低等弊端,而研制高效金剛石噴霧拋光劑制備技術(shù),能拋光一半以上的樣品,

         不需要頻繁更換拋光紙,解決了拋光劑在紙上進(jìn)行拋光時(shí),紙張極易破損、紙張大量浪費、耗時(shí)過(guò)多等問(wèn)題..................88


13 清華大學(xué)研制用于鈷阻擋層結構化學(xué)機械拋光的金剛石拋光液配方及其應用

         解決目前在鉆阻擋層結構化學(xué)機械拋光過(guò)程中,鉆和銅均極易腐蝕,從而導致拋光后出現嚴重的缺陷,如差的表面質(zhì)量和嚴重的銅互

         連碟形缺陷。用于集成電路制造過(guò)程中化學(xué)機械拋光平坦化晶圓表面的技術(shù)................................93


14 用于高純氧化鋁陶瓷的金剛石研磨拋光膏配方制備技術(shù)

         解決現有拋光膏的拋光技術(shù),產(chǎn)品表面粗糙度不能達到O.1微米以下:容易在產(chǎn)品表面產(chǎn)生拋光紋,其主要原因是金剛石拋光砂在

         拋光中產(chǎn)生團聚,且顆粒微觀(guān)形狀呈鋸齒狀,在拋光過(guò)程中產(chǎn)生在氧化鋁陶瓷表面凹槽,造成缺陷,用于半導體和LED行業(yè)的硅晶

         片、藍寶石外延片以及GaAs背面減薄拋光加工..........................................104


15 改性納米金剛石拋光液配方制備和拋光片制造技術(shù)

         解決傳統涂覆拋光膜不能對納米級的磨料進(jìn)行涂覆,這導致拋光膜磨料粒度大,在研磨拋光過(guò)程中容易在裸光纖端面產(chǎn)生劃痕,制備

         過(guò)程中沒(méi)有添加膠粘劑,在裸光纖拋光過(guò)程中,不會(huì )在截面上有膠殘留,所以在光傳輸過(guò)程中損耗更低,也進(jìn)一步降低了生產(chǎn)成本.......111


16 藍寶石等硬質(zhì)材料研磨用加速劑配方制備技術(shù)

         解決現有金剛石研磨液生產(chǎn)技術(shù)主要是依靠摩擦劑的高硬度,以及粒徑的大小來(lái)控制研磨的去除率,是以物理機械作用為主,去除率

         較低,且材質(zhì)表面易出現較深的損傷層,從而會(huì )降低成品率以及為后道拋光增加難度的問(wèn)題,能夠讓大顆粒摩擦劑有效的粘附在研磨

         盤(pán)表面,不易被拋光盤(pán)的高轉速所帶來(lái)的離心力甩出,提升研磨去除率,提升加工效率..........................122


17 用于人工心臟機械瓣瓣葉精密表面拋光處理的油水兩溶性金剛石研磨膏制備技術(shù)

         解決現有研磨拋光后主要存在表面拋光效率低,表面質(zhì)量達不到技術(shù)要求的問(wèn)題:油溶性金剛石研磨膏對其進(jìn)行研磨拋光后具體表現

         為拋光效率能滿(mǎn)足加工需求,但是加工后殘留在瓣葉表面的膏體容易形成一層薄薄的油膜,不易清洗,對后加工帶來(lái)一定的困擾問(wèn)題......131


18 北京工業(yè)大學(xué)開(kāi)發(fā)的超精密研拋金剛石復合片專(zhuān)用研拋液配方制備技術(shù)

         針對普通拋光液不能滿(mǎn)足金剛石復合片等超硬材料超精密鏡面加工而開(kāi)發(fā)的專(zhuān)用研拋液。研拋液加工后的金剛石復合片工件表面質(zhì)量

         均勻,無(wú)研拋缺陷,可達鏡面拋光效果。在加工過(guò)程中起到冷卻、潤滑,吸附和清洗的作用,用于類(lèi)似超硬材料的鏡面研拋加工,操

        作簡(jiǎn)單, 效率高,成本低,無(wú)污染.................................................136


19 一種研磨劑制備方法及用于聚晶金剛石復合片的研磨技術(shù)工藝

         加工周期控制在35h以?xún)?,效率提高70%。解決現有聚晶金剛石復合片的研磨,主要是對表面精細加工,不適用聚晶金剛石復合

         片的連續性生產(chǎn),研磨方法加工成本高、加工精度和加工質(zhì)量不穩定、加工周期在100h以上,加工效率較低,其應用受到了一定

         限制技術(shù)問(wèn)題..........................................................142


20 清華大學(xué)研制用于加工超光滑軸承鋼表面的金剛石拋光液配方及其應用
        該拋光液得到的軸承鋼具有低的表面粗糙度和低的缺陷數量的功能特性,因此使得該軸承鋼可以應用于精密器件中..............149

21 水性金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         解決微米級金剛石微粉比重大而容易沉淀,致使拋光液體系的穩定性較差,影響了拋光效果,限制金剛石拋光液的應用等技術(shù)問(wèn)題,

         水性金剛石拋光液很少發(fā)生沉淀,穩定性好,拋光效率高.......................................161


22 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)研制一種10nm納米金剛石水溶膠的制備技術(shù)

         解決納米金剛硬團聚問(wèn)題,可以應用于精密拋光領(lǐng)域,擁有更高的拋光精度:亦可作為原加劑應用于復合材料的力學(xué)性能增強,應用

         涉及精密研磨、拋光加工、復合材料、生物藥物運司輸領(lǐng)域的研究...................................167


23 天津大學(xué)研制光學(xué)玻璃拋光專(zhuān)用磁流變液配方制備技術(shù)

         采用水作為基液,在保證具備良好流變性能基礎上,能夠實(shí)現磁流變液作為拋光工具所需要的機械去除、潤滑、冷卻、清洗、防銹、

         滲透等性能,能夠大大增強對光學(xué)玻璃表面的拋光去除作用,并降低拋光介質(zhì)對光學(xué)玻璃表面、亞表面損傷,實(shí)現超光滑表面光學(xué)玻

         璃元器件的高表面質(zhì)量、高效率、低成本的拋光加工.........................................178


24 氧化鋯插芯內孔研磨用雙峰金剛石磨料研磨液配方制備技術(shù)

          提高研磨加工尺寸效率和精度(加工精度可達1μm,滿(mǎn)足了行業(yè)的特種需求),可以保證內孔光潔度,把2次研磨變成一次研磨,

         提高了加工效率降低研磨成本。研磨液主要使用橄欖油更加便于清洗,解決通訊領(lǐng)域氧化鋯材料配件的研磨精度要求很高,單純使用

         金剛石研磨膏無(wú)法滿(mǎn)足領(lǐng)域特殊需要的問(wèn)題.............................................185


25 耐磨高硬度耐腐蝕金剛石研磨體配方的制備技術(shù)

         解決現代機械加工制造及石油、地質(zhì)勘探行業(yè)對超硬耐磨材料的性能和質(zhì)量的要求不斷提高。研磨體在使用時(shí)受許沙石、硬纖維狀物

         質(zhì)等具有質(zhì)硬、表面粗糙、切削性質(zhì)的介質(zhì)及高溫、沖擊、腐蝕等作用,會(huì )產(chǎn)生嚴重的各類(lèi)磨損損失,導致過(guò)早報廢或失效,影響設

         備的正常運行和生產(chǎn)進(jìn)度的技術(shù)問(wèn)題,產(chǎn)品耐腐蝕,硬度高,韌性好,耐磨性能優(yōu)異...........................190


26 高效金剛石拋光劑制備技術(shù)

         制得的拋光劑不僅對高碳鋼等高硬金屬材料具有很好的拋光效果,而且對Cr203 、陶瓷、玉石、石英等硬脆材料也有很好的拋

         光效果,能夠完全避免對拋光材料表面的損傷,拋光時(shí)不產(chǎn)生劃痕、黑點(diǎn)、粒子表面殘留解決現有金剛石拋光劑拋光效果不佳的問(wèn)題......197


27 用于多種晶體加工的水基金剛石拋光液的對環(huán)保技術(shù)

         具有拋光、潤滑、冷卻、除屑等功能,具有良好的切削力和自銳性,在研磨拋光過(guò)程中能夠保持高研磨力而同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷.改變

         以化學(xué)腐蝕為主,以機械磨損為輔的技術(shù)工藝............................................210


28 國內新技術(shù),金剛石研磨膏配方制備技術(shù)

         能提高金剛石微粉的分散性,保證特種陶瓷的研磨效果,并能適用于油性和水性介質(zhì),解決現有研磨膏配方構成不理想,微粒分散特

         性不好,主要研磨材料的微觀(guān)幾何形態(tài)不理想,研磨材料微粒的體積尺寸范圍過(guò)寬,組份潤滑特性不好,使得特種陶瓷研磨拋光后表

         面質(zhì)量不理想,很難達到質(zhì)量要求,產(chǎn)品合格率低等問(wèn)題.......................................216


29 碳化硅用機械拋光液配方及采用其進(jìn)行機械拋光的方法

         以金剛石微粉和氧化鋁微粉為磨料,與水和分散劑配制而成的拋光液對大直徑高硬度的碳化硅進(jìn)行機械拋光,能夠減少顯微鏡下碳化

         硅晶片的可見(jiàn)劃痕數目,獲得粗糙度小、平整度高、表面損傷小的碳化硅晶片表面,為后續進(jìn)行化學(xué)機械拋光提供條件,解決晶片表

         面均勻平整難以加工的問(wèn)題....................................................221


30 用于研磨氮化硅陶瓷球的金剛石研磨劑制備技術(shù)

         制備方法工藝簡(jiǎn)單、操作性強。具有研磨效率高,其研磨效率提高了30%~50%,且對陶瓷本體污染少,提高研磨效率、減少研

         磨時(shí)間.............................................................227


31 低劃傷鉆石研磨液配方制備技術(shù)

         用于LED芯片、LED顯示屏、光學(xué)晶體、硅片、化合物晶體、液晶面板、寶石、陶瓷、鍺片、金屬工件等的研磨拋光,可改善芯

         片表面的粗糙度,減少產(chǎn)品加工工序,可以減少劃傷,降低加工成本..................................233


32 油性金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         不含對人體有害成分,不腐蝕設備,易于清洗,有利于環(huán)保,其分散性能好,能長(cháng)期存放不發(fā)生沉降,應用于超精表面的研磨拋光,

         可大大的提高拋光效率,用其拋光后產(chǎn)品光潔度高,解決是傳統的油性研磨液易沉淀、拋光效率低、具有腐蝕性而且不易清洗、不符

         合環(huán)保的要求等缺點(diǎn)的問(wèn)題....................................................240


33 日本三洋化成工業(yè)株式會(huì )社技術(shù)

         改進(jìn)的電子材料用金剛石研磨液配方技術(shù)、具有刮痕等基板缺陷少,并且在清洗工序中容易除去研磨屑,進(jìn)而在研磨工序中的研磨速

         度的持續性?xún)?yōu)異等優(yōu)點(diǎn),涉及冶金行業(yè)中的金屬金相檢驗自動(dòng)和半自動(dòng)拋光機上使用的一種新型拋光材料..................245


34 高效金剛石潤滑冷卻拋光液配方備方法和應用

         一種專(zhuān)門(mén)針對冶金、機械零部件、柴油機、電動(dòng)機、軸承等行業(yè)中的金屬金相試樣制備用的,環(huán)保、無(wú)毒、無(wú)腐蝕、無(wú)污染、懸浮穩

         定性好,拋出的試樣光潔度高, 具有潤滑冷卻性能,且在高強度、高轉速、高功率、長(cháng)時(shí)間的拋光過(guò)程中能保持良好的研磨拋光效

         果,不會(huì )出現工件發(fā)熱、燒傷、裂紋、劃痕等現象..........................................279


35 美國圣戈本磨料股份有限公司研制的包含微粒材料的涂布研磨產(chǎn)品

         特別適合于機加工操作的研磨產(chǎn)品,與傳統金剛石研磨材料相比明顯提高的耐久性。用于對比應用時(shí),研磨劑保留其有效性的時(shí)間是

         傳統研磨材料的兩倍以上.....................................................289


36 金剛石拋光膏配方制備技術(shù)

         拋光膏使用硬度高于硅的磨料,可直接涂在硅錠表面進(jìn)行拋光,快速、簡(jiǎn)單且方便,且能有效保證硅錠表面質(zhì)量。解決目前硅錠加工、

         運輸、保存等過(guò)程中,經(jīng)常出現硅錠表面損傷的情況。用人工拋光,既費時(shí)又費力;如用機械砂輪拋光,硅錠表面質(zhì)量不能有效保證

         的技術(shù)工藝...........................................................321


37 北京工業(yè)大學(xué)研制的塑性軟金屬材料專(zhuān)用金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         主要用于塑性軟金屬材料呢及其合金的超精密拋光,也適用于其他類(lèi)似塑性軟金屬材質(zhì)的超精密拋光,該拋光液優(yōu)點(diǎn)在于能夠有效提

         高加工表面質(zhì)量和加工效率,同時(shí)還可以在加工過(guò)程中起到冷卻、潤滑,吸附和清洗的作用,用于航空航天工程及機械制造等行業(yè).......327


38 北京工業(yè)大學(xué)技術(shù),適用于鎂鋁合金精密超精密機械拋光領(lǐng)域的專(zhuān)用液態(tài)金剛石拋光液配方技術(shù)

         無(wú)污染、不腐蝕工件,具有良好的潤滑和冷卻性能,可以在保持高切削率的同時(shí)降低對工件產(chǎn)生劃傷,有效提高工件表面加工質(zhì)量,

         滿(mǎn)足超精密鏡面加工要求??蓮V泛應用于精密機械加工、精密儀器制造、航空航天制造工程的等領(lǐng)域。而且能夠容易加工出表面粗糙

         度Ra0.012um的鎂鋁合金工件...............................................335


39 親水金剛石懸浮研磨拋光液配方及其制備技術(shù)

         研磨拋光液長(cháng)期保持穩定均勻狀態(tài)、不會(huì )產(chǎn)生任何沉淀、層析和失效現象;懸浮介質(zhì)除了能起到懸浮載體的作用外,在研磨拋光的過(guò)

         程中還具有冷卻、潤滑和去屑的功效,解決金剛石粉末極易沉淀,致使整個(gè)研磨液體系金剛石粉末分布均勻性差,影響了研磨體的表

         面質(zhì)量的問(wèn)題..........................................................341


40 人造金鋼石研磨膏配方制備技術(shù)

         解決了現有的拋光液對精密模具表面易產(chǎn)生擦痕和損傷,工件尺寸不易控制,加工效率不穩定,對生產(chǎn)工人的經(jīng)驗和技術(shù)要求高,不

         能實(shí)現批量加工生產(chǎn)問(wèn)題。新工藝要求研磨膏使用時(shí)配合氣動(dòng)打磨機,用于加工精密模具表面的拋光處理,其表面質(zhì)量和表面光潔度

         高,且對操作人員的經(jīng)驗和技術(shù)水平要求不高,可以大大提高生產(chǎn)效率降低成本.............................348


41 日本株式會(huì )社MORESCO研制

         涉及在電子儀器、光學(xué)儀器、節能設備等玻璃基板的拋光加工中在提高加工速率和改善精力日工表面粗糙度方面均優(yōu)異的拋光用潤滑

         組合物以及金剛石拋光漿料技術(shù)工藝,提高了拋光速度、改善精加工表面粗糙度,進(jìn)而,可減少表面殘渣的拋光漿料以及用于制備該

         拋光漿料的拋光用潤滑組合物制備技術(shù)...............................................354


42 用于研磨氮化硅陶瓷球的金剛石研磨劑配方制備技術(shù)
         高強度的金剛石顆粒、具有研磨效率高,其研磨效率提高了30%~50%,且對陶瓷本體污染少,提高研磨效率、減少研磨時(shí)間.......364

43 清華大學(xué)研制超精油性金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         主要應用于碳化硅晶片、LED藍寶石襯底片、陶瓷、光纖、模具及半導體化合物晶片等表面的研磨拋光。提高拋光效率,分散性能

         好,長(cháng)期保持均勻穩定狀態(tài),用其拋光后產(chǎn)品光潔度高,拋光效果好并且不含對人體有害成分,易于清洗,解決傳統的油性研磨液易

         沉淀、拋光效率低、具有腐蝕性而且不易清洗、不符合環(huán)保的要求等缺點(diǎn)................................369


44 河南科技學(xué)院研制的4H-SiC單晶片研磨工序用金剛石研磨膏配方制備技術(shù)

         研磨膏具備良好的穩定'性,可在常溫下,保質(zhì)18個(gè)月以上,所加入化學(xué)物質(zhì)不發(fā)生失效和析出現象,可以對4H-SiC單晶片

         的加工有效提高加工精度.....................................................376


45 河南工業(yè)大學(xué)研制滾筒拋光機上使用的MC尼龍拋光磨粒制備技術(shù)

         可用于金屬、木材、石材、玻璃、陶瓷、塑料等制品表面進(jìn)行的拋光處理,解決以往滾筒拋光機采用金剛石微粉級超細磨料及拋光劑,

         拋光材料中混合有大量被拋光工件表面碎屑,難以去除和分離,影響使用效,具有優(yōu)良的拋光效果,優(yōu)良的耐磨性和拋光效率,同時(shí)

         被拋光工件表面碎屑與拋光磨粒分離容易..............................................387


46 南京航空航天大學(xué)研制金剛石磨粒/氧化鋁核殼結構的復合磨粒制備技術(shù)和應用

         有效提高了基體對磨粒的把持力,有效解決磨粒的脫落問(wèn)題,提高磨粒的利用率,且外殼硬度較低,不會(huì )影響磨粒對工件的作用,延

         長(cháng)了磨具使用壽命........................................................392


47 磨粒/氧化鎳核殼結構的復合金剛石磨粒制備技術(shù)和應用

         解決磨粒的脫落問(wèn)題,提高磨粒的利用率和磨具使用壽命,用于光學(xué)零部件和半導體工業(yè)的加工拋光工藝,復合磨粒外殼硬度較低,

         不會(huì )影響磨粒對工件的作用....................................................403


48 用于高質(zhì)量藍寶石襯底的金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         配置的研磨液分散均勻,化學(xué)穩定性好;采用此方法配置的研磨液對藍寶石晶體進(jìn)行研磨,在保證襯底表面質(zhì)量的前提下,提高研磨

         效率,降低了加工成本......................................................411


49 大連理工大學(xué)研制金剛石切削刀具超精密刃磨用拋光液配方制備技術(shù)

         解決機械刃磨方法存在無(wú)法實(shí)現納米級鈍圓半徑、表面粗糙度高、亞表面損傷大、刃磨時(shí)間長(cháng)等問(wèn)題,避免硬質(zhì)顆粒給金剛石刀具表

         面帶來(lái)的損傷,也加快了刀具刃磨速度,實(shí)現金剛石刀具納米級低損傷刃磨...............................416


50 納米金剛石拋光液配方的制備技術(shù)

         能夠解決納米金剛石的團聚問(wèn)題、又能使其在水基中穩定懸浮、且工藝比較簡(jiǎn)單等特點(diǎn),適用于液晶導電玻璃、平面光學(xué)玻璃、光學(xué)

         球面、光學(xué)鏡頭玻璃、濾光片、濾波窗以及玻璃盤(pán)基片的精密研磨拋光,特別適用于軟材質(zhì)的球面玻璃的研磨拋光..............422


51 用于LED襯底加工用金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         新材料技術(shù),應用于光電行業(yè)LED制造中硅、碳化硅、藍寶石等襯底的精密高效研磨拋光,解決目前微米級金剛石在加工LED襯

         底片過(guò)程中出現的工件表面粗糙度值較高、有細小劃痕與微裂紋等表面加工缺陷,解決僅應用非金剛石納米級拋光材料作為磨料在加

         工LED襯底片過(guò)程中出現的材料去除速率低的問(wèn)題.........................................427


52 河南科技學(xué)院研制水基6H-SiC單晶片全局平面化的化學(xué)機械金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         解決半導體照明及光電子加工中的SiC單晶片化學(xué)機械拋光技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題,研制去除率高、無(wú)損傷、污染小的用SiC單

         晶片化學(xué)機械拋光液制備技術(shù),可用于硬脆性晶體材料中的CMP過(guò)程以及其他光學(xué)材料的精密化學(xué)機械拋光................436


53 用于硬脆性材料超精研磨的水性研磨液使用方法

         解決了各種不同硬脆性材料特別是高硬度材料的高精度研磨,不易產(chǎn)生劃痕和腐蝕等缺陷,研磨速率高,后續清洗方便;與金剛石磨

         料混合配合使用,具有優(yōu)異的潤滑性能和防銹性能,在48h內,混合液顏色均一,無(wú)沉淀,在研磨機上對晶片進(jìn)行研磨,研磨后用

         水超聲清洗,晶片表面光潔度好,無(wú)劃痕和腐蝕坑等缺陷,表面粗糙度可達到2微米以?xún)龋矗矗?/p>
54 納米級金剛石拋光液配方調配技術(shù)

         可應用于類(lèi)似的半導體結構材料和相近似硬度(莫氏硬度大于9) 的材料的CMP工藝。制備出的晶片結構完整,無(wú)物理?yè)p傷,表

         面形貌細膩,光滑,厚度均勻,整體尺寸形變小,晶片襯底總體厚度小于60IIm,粗糙度達到1nm的工藝...............451


55 高硬度微米金剛石研磨液配制方法

         研磨液采用高硬度微米級磨料,使用效果理想,各項機械性能指標均衡,滿(mǎn)足了GaN外延用襯底(碳化硅,藍寶石)進(jìn)行減薄研磨

         工藝的要求,解決研磨用磨料顆粒在溶劑中難以分散均勻,顆粒粒度尺寸大小不平均,研磨液長(cháng)時(shí)間使用發(fā)生磨料顆粒團聚現象,由

         于磨料顆粒和切削材料殘渣的凝積造成二次損傷,以及研磨液的PH值失調等技術(shù)問(wèn)題..........................458


56 永懸浮鉆石研磨液配方制備技術(shù)

         用于LED芯片、LED顯示屏、光學(xué)晶體、硅片、化合物晶體、液晶面板、寶石、陶瓷、鍺片、金屬工件等的研磨拋光,可長(cháng)期保

         持均勻懸浮狀態(tài),不產(chǎn)生任何沉淀、分層和失效現象,不需要任何的攪拌裝置同時(shí)可以有效的保證產(chǎn)品的穩定使用..............464


57 金剛石微粉研磨液循環(huán)硬磨劑配方制備技術(shù)

         涉及將該金剛石微粉研磨液循環(huán)硬磨劑用于研磨氮化硅球、氧化鋯球、碳化鎢球、合金球等高精度、高附加值產(chǎn)品的應用。金剛石微

         粉研磨液循環(huán)硬磨劑通常應用于精研I和精研II中,有利地提高了氮化硅球等的表面光潔度和尺寸精度,以及提高磨削效率.........469


58 日本福古米株式會(huì )社研制的用于半導體材料所構成的被拋光物體進(jìn)行拋光的金剛石拋光組合物

         解決制造高度光滑表面需要大量時(shí)間,不能提供足夠的拋光速率(磨除率)的問(wèn)題............................477


59 制備硬盤(pán)磁頭的金剛石拋光液配方技術(shù)

         拋光液懸浮穩定性和分散均勻性好,拋光時(shí)拋光效率高,加工表面質(zhì)量好,解決現有的磁頭拋光液在應用中往往帶來(lái)拋光工序效率低

         下及被拋光磁頭表面質(zhì)量不高等問(wèn)題,適用于形成研磨盤(pán)固結磨料微刃和作為游離磨粒拋光,可以進(jìn)行微晶玻璃、藍寶石襯底、硅片、

         石英基板、碳化硅襯底等材料的超精密表面研磨拋光.........................................486


60 用于加工藍寶石表面曲率半徑的金剛石研磨液配方及制備技術(shù)

         研磨液用于大直徑藍寶石透鏡曲率表面精加工,所得產(chǎn)品的表面質(zhì)量高,加工狀態(tài)穩定,能滿(mǎn)足后續拋光的要求,并且有加工效率高、

         價(jià)格低廉,加工范圍廣的優(yōu)點(diǎn)...................................................498


61 用于高質(zhì)量研磨碳化硅晶片的金剛石研磨液制備技術(shù)以及使用該研磨液的研磨工藝方法

         配制的研磨液氣味清新,分散均勻,狀態(tài)穩定,基本無(wú)沉淀,可循環(huán)使用,加工晶片去除速率快,加工出的碳化硅晶片較光亮,且無(wú)

         明顯劃痕,可高效防止上下研磨盤(pán)生銹。該研磨液的使用循環(huán)次數,通過(guò)改變加入添加劑的量或者不同添加劑的比例來(lái)調節..........504


62 可降低拋光表面粗糙度、減少表面缺陷的核/殼型復合納米磨料銅化學(xué)機械拋光液金剛石配方制備技術(shù)

         解決在銅芯片的拋光過(guò)程中,由于拋光液中磨料的硬度較大,拋光過(guò)程中對表面的損傷較嚴重,不僅造成表面粗糙度較大,還易出現

         拋光劃痕、凹坑等表面缺陷的問(wèn)題,而改善拋光后表面的微觀(guān)狀況,降低粗糙度.............................510


63 可降低拋光表面粗糙度、清洗方便、對設備無(wú)腐蝕的核/殼型復合納米磨料硅片金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         解決在硅片的拋光過(guò)程中,由于拋光液中磨料的硬度較大,拋光過(guò)程中對表面的損傷較嚴重,不僅造成表面粗糙度較大,還易出現拋

         光劃痕、凹坑等表面缺陷的問(wèn)題..................................................516


64 用于藍寶石圓棒膠木輪的金剛石拋光膏配方制備技術(shù)

         解決拋光液拋光工件,工件表面容易產(chǎn)生嚴重的擦痕及其它表面缺陷,表面光潔度差:磨料濃度不均勻,工件尺寸不易控制,加工效

         率不穩定的問(wèn)題,適用于大批量生產(chǎn)。制備的拋光膏均勻分散、穩定、不會(huì )產(chǎn)生沉淀...........................522


65 用于不銹鋼鏡面的金剛石拋光液制備技術(shù)

         解決現有拋光液拋光的不銹鋼產(chǎn)品,其表面亮度差,拋光效率低,拋光時(shí)間長(cháng)的技術(shù)問(wèn)題,用于加工高等級藍寶石圓球,其表明質(zhì)量

         和表面光潔度高,對操作人員的經(jīng)驗和技術(shù)水平要求不高,可以大大提高生產(chǎn)效率,降低成本,適用于批量加工...............527


66 生產(chǎn)切割藍寶石晶片的金剛石砂漿切割液配方技術(shù)和工藝

         配制的砂漿切割液可以用切割水晶的多線(xiàn)切割機加工藍寶石晶片,不僅切割效率高,精度高,而且設備投資小,切損小,切割成本低,

         解決傳統的藍寶石晶片切片方式是內因切剖,每次僅切割單片,加工效率低,且由于刀片厚度大所以材料損耗大的問(wèn)題............532


67 高精密非水基納米級金剛石研磨液制備技術(shù)及用途

         可完全消除精密拋光中可能產(chǎn)生的潮解、水解、化學(xué)腐蝕與電化學(xué)腐蝕,能最大程度提高拋光效率和拋光質(zhì)量。產(chǎn)品在硬質(zhì)合金、光

         盤(pán)模具、計算機磁頭、計算機硬盤(pán)、太陽(yáng)能電池板等具有廣泛的用途..................................538


68 韓國第一毛織株式會(huì )社研制技術(shù)

         用于一種用于制造集成電路器件化學(xué)機械拋光(CMP)的漿料組合物,拋光組合物含有金剛石特別可用于銅互連的拋光。也可用于

         其它非鐵金屬如鋁、鎢、鉑以及它們的合金的增強的拋光,防止金屬互連的過(guò)度凹陷,金屬被充分地去除,具有良好的金屬去除速率......549


69 德國弗賴(lài)貝格化合物原料有限公司研制鋼絲鋸中使用的金剛石研磨液配方制備技術(shù)

         解決研磨液的性能隨便用持續時(shí)間增加而發(fā)生的變化同時(shí)造成用這種方式生產(chǎn)的GaAs晶片質(zhì)量變差的問(wèn)題,提高從工件切割的晶

         片的質(zhì)量,可以用來(lái)補償鋼絲性能的波動(dòng),能省去頻繁的鋼絲更換或者省去在更換鋼絲時(shí)更換研磨液....................562

 
70 美國圣戈本磨料股份有限公司研制包含金剛石微粒材料的涂布研磨產(chǎn)品制備技術(shù)
         聚集體的研磨劑保留其有效性的時(shí)間是傳統研磨材料的兩倍以上,在一些情況下高達20倍,結合在復合材料中,提高復合體的強度......586

71 歐洲技術(shù),用于在制造研磨或切割工具中使用的半制品

         其為柔軟的、易變形的糊狀物的形式,該糊狀物包括粉末狀可燒結基質(zhì)材料、粘合劑和用于該粘合劑的溶劑,該糊狀物具有分散于其

         中的金剛石超硬磨料顆粒,該超硬磨料顆粒被單個(gè)地殼封在預燒結材料的涂層內.............................628


72 用于表面拋光為10級的寶石圓球的金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         拋光液拋光的工件表面表面光潔度好,適用于大批量生產(chǎn)。解決配制而成的拋光液拋光寶石圓球,圓球表面容量產(chǎn)生嚴重的擦痕等表

         面缺陷,由于納米金剛石粉分散不均勻,使磨料有濃度也不均勻,造成因球尺寸不易控制,圓度等級達不到G10級,加工效率不穩

         定,對生產(chǎn)工人的經(jīng)驗和技術(shù)要求高,不能實(shí)現批量加工等問(wèn)題....................................649


73 大連理工大學(xué)研制大尺寸金剛石晶圓超精密低損傷拋光的拋光液配方制備技術(shù)

         拋光液具有拋光效率高、拋光質(zhì)量好、穩定性良好等優(yōu)點(diǎn),能夠在常溫或低溫條件下實(shí)現大尺寸金剛石晶圓的超精密低損傷拋光,解

         決現有拋光液不含添加催化劑、穩定劑、分散劑等拋光液常用成分,存在拋光速率低,拋光液的穩定性差?,F有的拋光工藝與設備無(wú)

         法滿(mǎn)足對大尺寸金剛石晶圓的高效低成本超精密加工要求等問(wèn)題....................................655


74 日本微涂料株式會(huì )社研制涉及含有金屬以及陶瓷、塑料等非金屬的被加工物表面進(jìn)行加工用作游離磨粒的金剛石研磨材料

         解決含團簇金剛石的研磨材料的加工淤漿加工被加工物的表面時(shí),被加工物的表面出現加工不均,加工后的品質(zhì)有偏差,無(wú)法再現性

         良好地生產(chǎn)規定品質(zhì)的加工品的問(wèn)題................................................669


75 美國圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司研制的含有金剛石的的拋光漿料制備方法及拋光陶瓷和金屬零件的使用方法

         涉及用于各種工業(yè)用途,包括建筑的、耐火的和半導體加工零件,解決陶瓷零件如碳化硅零件經(jīng)常需要后成形機械加工,其中零件處

         于致密形式,但需要表面拋光等機械加工帶來(lái)的技術(shù)問(wèn)題.......................................692


76 水性金剛石研磨液制備技術(shù)和用途

         解決金剛石微粉密度大,納米級較小的顆粒容易團聚,微米級較大的顆粒易于沉淀,致使整個(gè)研磨液體系均勻性較差,影響拋光質(zhì)量

         和效率的問(wèn)題。適用于光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金、寶石、人工晶體、光纖、LED顯示屏、集成電路、半導體、硬磁盤(pán)等多

         種部門(mén)和領(lǐng)域的研磨、拋光。該研磨液可長(cháng)期保持均勻穩定狀態(tài),不會(huì )產(chǎn)生任何沉淀、分層和失效現象...................709


77 河南科技大學(xué)研制能夠提高軸承表面加工質(zhì)量、改善軸承摩擦副表面粗糙度的金剛石研磨劑配方及其使用方法

         解決現有技術(shù)中的超精加工軸承磨床,僅能對軸承中的單個(gè)零件進(jìn)行磨削加工,并且由于磨床本身的精度及砂輪的粒度有一定局限性,

         表面加工精度不夠,使加工出的軸承質(zhì)量不理想的問(wèn)題........................................719


78 地質(zhì)大學(xué)研制出一種用于光纖連接器陶瓷插針內孔表面超精密拋光用的高純度納米金剛石拋光膏配方制備技術(shù)

         具有兩溶性、具有較高的拋光速率、良好的分散穩定性、粘度適中,能有效的防止被拋光陶瓷插針微內孔表面產(chǎn)生,解決現有的研磨

         拋光液由于粘度太低,而無(wú)法用于光纖連接器陶瓷插針內孔精密加工問(wèn)題................................725


79 國內研制超精密加工用高純度納米金剛石拋光液以及該金剛石拋光液的制備方法

         用于計算機硬盤(pán)磁頭、半導體硅片、人造晶體、高硬陶瓷、寶石、金相等超精密加工。較高的磨削速度(即拋光效率高),防止被拋光表面在拋光的過(guò)程

         中不產(chǎn)生劃痕、黑點(diǎn)、粒子殘表面缺陷;具有將產(chǎn)品的表面粗糙度降低到0.1nm~1nm,具有拋光效果好特點(diǎn).............732


80 一種納米和微米級金剛石微粉均可適用的穩定懸浮的水基金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         拋光液配方中金剛石微粉能長(cháng)期穩定懸浮。制備的水基金剛石拋光液產(chǎn)品質(zhì)量一致,穩定性好。解決是金剛石微粉比重大,在水中易

         沉降并最終完全沉淀,會(huì )導致加工過(guò)程中拋光液中的金剛石微粉含量不一致,嚴重影響拋光質(zhì)量和拋光效率的問(wèn)題..............742


81 上海大學(xué)研制核/殼型納米粒子研磨劑拋光液組合物配方制備技術(shù)

         用于其他金屬材料、集成電路硅晶片、光學(xué)玻璃、晶體、陶瓷等材料的表面拋光??梢越档捅砻娴拇植诙龋ā。遥幔?、波紋度(Wa),

         井有效減輕拋光加工對硬盤(pán)基片表面的機械損傷,消除劃痕、凹坑等表面微觀(guān)缺陷,改善拋光后表面的微觀(guān)狀況,降低表面粗糙度.......751


82 日本技術(shù),含有膠性物質(zhì)的金剛石微粒液狀組合物

         能夠用作半導體晶片的表面研磨用途等工業(yè)用研磨料,尤其是除了分散有金剛石微粒的液狀研磨劑以外,還可以與粘合劑一起涂布在

         強力紙或基布上,應用作研磨紙、研磨布、加固成磨石狀的研磨部件等.................................758


83 一種水基納米金剛石拋光液配方制備方法

         用于各類(lèi)人工晶體、光電子元件和超大規模集成電路的拋光加工所用的拋光成本較低、拋光效率較高、性能穩定、用于拋光工件時(shí),

         表面粗糙度小于0.4nm的水基納米金剛石拋光液配方制備技術(shù),具備良好的懸浮穩定性,可在常溫下保質(zhì)18-24個(gè)月,其中

        的納米金剛石粒子不發(fā)生沉降,加化學(xué)物質(zhì)不發(fā)生失效現象......................................773


84 一種用于存儲器硬盤(pán)磁頭拋光的金剛石拋光組合物制備方法

         具有較高的磨削速度,能夠防止磁頭表面在拋光的過(guò)程中產(chǎn)生劃痕與黑點(diǎn)等表面缺陷,使經(jīng)過(guò)或未經(jīng)過(guò)加工的存儲器硬盤(pán)磁頭表面的

         表面粗糙度降低到一定的水平,還可用于類(lèi)似于存儲器硬盤(pán)磁頭表面這樣表面要求光潔度很高的金屬或非金屬表面..............780


85 德國西門(mén)子公司研制的用于金屬和金屬氧化物的含有多晶金剛石的拋光液制備技術(shù)
         可提高對金屬氧化物和金屬的磨蝕率,它可用于對金屬和金屬氧化物層進(jìn)行平整化和/或結構化處理,并且能保證足夠高的磨蝕率.......786

86 云南民族大學(xué)研制易清洗的金剛石研磨膏制備技術(shù)

         解決油性介質(zhì)金剛石研磨膏在研磨拋光時(shí)會(huì )吸附在器壁的表面,不易清洗,對后續研磨拋光會(huì )造成不良影響的問(wèn)題,適用于玻璃、陶

         瓷、寶石、硬質(zhì)合金等高硬度材料制品的量具、刃具光學(xué)儀器及其它高光潔度工件的研磨、拋光加工....................800


87 一種切削速率高、被加工產(chǎn)品的表面粗糙度低的水性金剛石拋光液配方制備技術(shù)

         解決因金剛石微粉的比重大,在水中很容易沉降,會(huì )導致在加工過(guò)程中金剛石顆粒的不均勻,影響拋光質(zhì)量和拋光效率的問(wèn)題,切削

         速率較市售同類(lèi)產(chǎn)品提高18% 以上,用于加工產(chǎn)品后的表面粗糙度降低8%以上...........................810


88 成本低、去除率高、懸浮穩定性好、長(cháng)時(shí)間放置不發(fā)生沉降現象的水油兩溶研磨液

         解決了目前水性研磨液去除率低和油性研磨液難清洗的缺點(diǎn),解決不同粒度金剛石磨料在研磨液體系穩定懸浮的問(wèn)題。對藍寶石進(jìn)行

         加工時(shí),具有很好的排屑性能:研磨速率高,表面粗糙度低,易清洗,是研制的一種環(huán)保技術(shù).......................817


購買(mǎi)理由

  一、資料收錄國際、國內優(yōu)秀金剛石研磨液(膏)、拋光液新技術(shù)、信息量大,配方全,是超硬材料、研磨拋光制品廠(chǎng)家提高產(chǎn)品質(zhì)量,新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)必備資料

《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》

優(yōu)秀工藝配方 生產(chǎn)高性能金剛石研磨制品  必備資料


? ? ? ?                《金剛石研磨液、拋光劑配方制備技術(shù)精選匯編》收錄了國內外著(zhù)名生產(chǎn)企業(yè)、研究單位、科研院校的新技術(shù)工藝配方

       例如:
         清華大學(xué)研制用于鈷阻擋層結構化學(xué)機械拋光的拋光液配方及其應用,該拋光液可以在鈷和銅表面形成一層具有保護作用的鈍化膜,從而防

            止在拋光過(guò)程中出現過(guò)腐蝕,降低鈷和銅材料去除速率,并且獲得可調節的材料去除速率選擇性。


         北京工業(yè)大學(xué)研制超精密研拋金剛石復合片專(zhuān)用研拋液配方及其制備方法,研拋液加工后的金剛石復合片工件表面質(zhì)量均勻,無(wú)研拋缺陷,

            可達鏡面拋光效果。在加工過(guò)程中起到冷卻、潤滑,吸附和清洗的作用,用于類(lèi)似超硬材料的鏡面研拋加工,操作簡(jiǎn)單,效率高,無(wú)污染。


         天津大學(xué)一種光學(xué)玻璃拋光專(zhuān)用磁流變液配方及其制備方法,采用水作為基液,因此在保證具備良好流變性能基礎上,能夠實(shí)現磁流變液作

            為拋光工具所需要的機械去除、潤滑、冷卻、清洗、防銹、滲透等性能,能夠大大增強對光學(xué)玻璃表面的拋光去除作用。


         中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)研制一種納米金剛石解團聚的方法,可以應用于精密拋光領(lǐng)域,相對于團聚的大顆粒納米金剛石來(lái)說(shuō),將擁有更高的拋光

            精度;亦可作為添加劑應用于復合材料的力學(xué)性能增強應用;可以應用于生物藥物運輸領(lǐng)域的研究。


         大連理工大學(xué)研制金剛石切削刀具超精密刃磨用拋光液配方及其制備方法。在常溫條件下,陶瓷拋光盤(pán)和碳化硼磨料的機械作用使金剛石切

            削刀具表面產(chǎn)生損傷,借助高鐵酸鉀的強氧化作用實(shí)現刀具表面材料的微量去除。


         河南科技學(xué)院一種6H-SiC單晶片全局平面化的化學(xué)機械拋光液配方制備技術(shù)。該拋光液去除率可控,拋光后晶片無(wú)損傷、平整度高,價(jià)格便

           宜,成本低??捎糜谟泊嘈跃w材料中的CMP過(guò)程以及其他光學(xué)材料的精密化學(xué)機械拋光。

 

       中國計量學(xué)院研制高精密非水基納米級金剛石研磨液制備方法,可完全消除精密拋光中可能產(chǎn)生的潮解、水解、化學(xué)腐蝕與電化學(xué)腐蝕,能

            最大程度提高拋光效率和拋光質(zhì)量。產(chǎn)品在硬質(zhì)合金、光盤(pán)模具、計算機磁頭、計算機硬盤(pán)、太陽(yáng)能電池板等具有廣泛的用途。


         中國地質(zhì)大學(xué)超精密加工用高純度納米金剛石拋光液以及該金剛石拋光液的制備方法。所述的納米金剛石的純度為99.9%以上;粒度分布為

           10~200nm。具有穩定性良好、拋光效率高、拋光效果好的特點(diǎn)。

  二、解決解決金剛石液(膏)、拋光劑制備工藝及應用、產(chǎn)品應用技術(shù)問(wèn)題、是企業(yè)改善工藝、改進(jìn)配方、提高產(chǎn)品性能和質(zhì)量、降低生產(chǎn)成本、提高企業(yè)產(chǎn)品效益的良師益友



《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》

解決技術(shù)難題 提高產(chǎn)品質(zhì)量 必備資料

       
          《金剛石研磨液、拋光劑配方制備技術(shù)精選匯編》資料中每項新技術(shù)工藝配方,都是針對現有技術(shù)的改進(jìn)和提高,解決方案和辦法。

          及時(shí)掌握這些優(yōu)秀新技術(shù),有利于提高企業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量。
      

       例如:
      
如何解決人造金鋼石研磨膏用于現有的拋光液對精密模具表面易產(chǎn)生擦痕和損傷的問(wèn)題?

       如何解決提高磨粒的分布均勻性。解決磨粒的脫落,提高磨粒的利用率和磨具使用壽命的問(wèn)題?

       如何解決納米金剛石在水基中穩定懸浮、且工藝比較簡(jiǎn)單以及團聚問(wèn)題?

       如何解決解決各種不同硬脆性材料特別是高硬度材料的高精度研磨,不易產(chǎn)生劃痕和腐蝕坑等缺陷問(wèn)題?

       如何提高拋光效率,防止磨料在金屬工件表面產(chǎn)生鑲嵌,提高工件亮度,減少了下一道工序的處理難度問(wèn)題?

       如何利用改性聚脲的N-甲基吡咯烷酮分子的空間網(wǎng)絡(luò )結構,實(shí)現其持續懸浮,節省研磨液在使用前的混勻操作,提高使用的便利性問(wèn)題?

        提高研磨液的加工效率;避免常規金剛石磨料因吸附架橋效應而造成的工件表面劃傷問(wèn)題?

        如何解決單一的水性金剛石研磨液或油性金剛石研磨液潤滑性不足,滿(mǎn)足精密超精密研磨加工工藝要求的技術(shù)問(wèn)題?

       如何解決針對藍寶石基板之類(lèi)的高硬度和高脆性材料,提高研磨速率的研磨組合物研究問(wèn)題?

       如何防止在拋光過(guò)程中出現過(guò)腐蝕,降低鈷和銅材料去除速率,并且獲得可調節的材料去除速率選擇性問(wèn)題?

       如何減輕晶片因純粹物理機械作用而導致的界面損傷層,從而大大的提高了研磨去除率問(wèn)題?   

       如何解決現有的普通研拋液對金剛石復合片,加工表面容易產(chǎn)生缺陷,有研拋紋路,難以達到鏡面研拋效果等問(wèn)題?
       如何降低拋光介質(zhì)對光學(xué)玻璃表面、亞表面損傷,從而實(shí)現超光滑表面光學(xué)玻璃元器件的高表面質(zhì)量、高效率、低成本的拋光加工問(wèn)題?

       如何提高研磨加工尺寸效率和精度(加工精度可達1μm,滿(mǎn)足了行業(yè)的特種需求),保證內孔光潔度,提高了加工效率降低研磨成本問(wèn)題?

       如何在磨料粒徑相同的情況下可以減少劃傷,有效改善芯片表面的粗糙度,減少產(chǎn)品加工工序,降低加工成本問(wèn)題?

  三、溝通企業(yè)與科研院校的技術(shù)合作的橋梁、掌握金剛石研磨液、拋光劑方制備工藝新技術(shù)動(dòng)向、投資新產(chǎn)品決策依據

《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》
   投資高新產(chǎn)品 決策依據


  通過(guò)《金剛石研磨液(膏)、拋光劑制備工藝配方精選匯編》資料,您可以及時(shí)掌握國內科研院校、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的金剛石最新技術(shù)成果??梢杂嗅槍π缘嘏c優(yōu)秀技術(shù)成果的研制院校、科研單位建立技術(shù)合作,共贏(yíng)發(fā)展。國家也鼓勵高等院校、科研院所科研人員在完成所在單位工作任務(wù)的前提下,以專(zhuān)職、兼職或受聘的形式在轉化基地開(kāi)展中試、試制、實(shí)用推廣等成果產(chǎn)業(yè)化活動(dòng)。


  資料在技術(shù)和應用層面具有一定的前瞻性,非常值得參考和借鑒,有利于促進(jìn)研磨新技術(shù)、新工藝、新方法和新產(chǎn)品的推廣應用。超硬材料生產(chǎn)及使用與研制企業(yè)可以通過(guò)這些技術(shù)資料,了解競爭對手的技術(shù)水平、跟蹤最新技術(shù)發(fā)展動(dòng)向、提高研發(fā)起點(diǎn)、加快產(chǎn)品升級和防范知識產(chǎn)權風(fēng)險,為自主創(chuàng )新、技術(shù)改造、產(chǎn)業(yè)或行業(yè)標準制定和實(shí)施“走出去”戰略發(fā)揮重要作用。也是新產(chǎn)品引進(jìn)、投資決策的重要依據。

微生物菌肥優(yōu)秀技術(shù)展示


  環(huán)保、無(wú)腐蝕、成本較低、拋光效率高

      水性金剛石研磨液制備方法

  【技術(shù)背景】

  金剛石是目前己知自然界中最硬的物質(zhì),其相對硬度(莫氏硬度)為10,顯微硬度(正方錐壓入法)為98588MPa。金剛石絕對硬度是石英的1000倍,是剛玉的150倍。


  金剛石以其無(wú)以倫比的高硬度和優(yōu)良的機械物理性能,成為加工各種堅硬材料的工具。金剛石微粉是最硬的→種超細磨料,已經(jīng)廣泛用于機械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、軍工工業(yè)部門(mén),是研磨拋光硬質(zhì)合金、陶瓷、寶石、光學(xué)玻璃、人工晶體、集成電路等高硬材料的理想材料。高硬度的金剛石微粉外形為球形或橢球形,用于研磨拋光不會(huì )劃傷被研磨體。


  金剛石微粉可以制成膏劑、氣霧劑、膜狀、油性或水性液體的拋光制品。金剛石膏劑、氣霧劑由于易結巴沉淀、難分散且浪費較大等缺點(diǎn),限制了其應用范圍。


  油性研磨液與水性?huà)伖庖合啾?,成本和后處理相對較高,拋光效率較低。而水性研磨液具有環(huán)保、無(wú)腐蝕性、成本較低、拋光效率高等優(yōu)點(diǎn),在各個(gè)領(lǐng)域得到了愈來(lái)愈廣泛的應用。


  但是金剛石微粉密度大,納米級較小的顆粒容易團聚,微米級較大的顆粒易于沉淀,致使整個(gè)研磨液體系均勻性較差,影響拋光質(zhì)量和效率。

 

  【研制情況】

  所要解決的技術(shù)問(wèn)題是為了克服已有技術(shù)的不足,國內某科技企業(yè)研制出一種適用于微米級及納米級金剛石微粉的穩定均勻分散的水性金剛石研磨液及其制備方法和用途。


  技術(shù)構思為,在水性金剛石研磨液中既利用有機溶劑,又利用去離子水作溶劑,使得懸浮劑和分散穩定劑能夠協(xié)同作用于金剛石微粉,從而獲得分散度良好、穩定且保存期延長(cháng)的環(huán)保型水性金剛石研磨液。

  

  水性金剛石研磨液的用途,其特征在于:用于光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金、寶石、人工晶體、光纖、LED顯示屏、集成電路、半導體或硬磁盤(pán)的拋光。


  研制目的及優(yōu)點(diǎn)】

  在水性金剛石研磨液中既利用有機溶劑,又利用去離子水作溶劑,使得懸浮劑和分散穩定劑能夠協(xié)同作用于金剛石微粉,從而獲得分散度良好、穩定且保存期延長(cháng)的積極效果。水性金剛石研磨液具有環(huán)保、無(wú)腐蝕性、成本較低、拋光效率高等優(yōu)點(diǎn),可廣泛適用于光學(xué)儀器、玻璃、陶資、硬質(zhì)合金、寶石、人工晶體、光纖、LED顯示屏、集成電路、半導體、硬磁盤(pán)等多種部門(mén)和領(lǐng)域。


  通過(guò)對水性金剛石研磨液pH值的調節,既有利于研磨液在最穩定的pH值范圍內穩定分散,又可針對不同工件的要求選取相應的pH值,以提高研磨效率和拋光效果。但是所選pH值調節劑不能影響工件的其他性能。


  水性金剛石研磨液從制備、儲存到運輸都可以在室溫下進(jìn)行,而且可以保質(zhì)1.5-2年。在所用的微粉粒度在10nm-3μm之間時(shí),不會(huì )產(chǎn)生任何沉淀、分層和失效現象。當粒度在3-100μm之間時(shí),隨著(zhù)粒度的不同,研磨液會(huì )呈現不同程度的沉淀和上清液現象,粒度越大,沉淀和上清液越明顯。但出現沉淀和上清液現象也是需要一定的時(shí)間的,只要在使用前稍加搖勻,就不會(huì )影響使用效果。

  提供的水性金剛石研磨液及其制備方法,所用的金剛石微粉必須完全分散開(kāi),不能存在任何團聚現象,不然很可能會(huì )在工件表面產(chǎn)生劃痕,影響拋光質(zhì)量和表面平整度。


  通過(guò)對研磨液pH值的調節,既有利于研磨液在最穩定的pH值范圍內穩定分散,又可針對不同工件的要求選取相應的pH值,以提高研磨效率和拋光效果。但是所選pH值調節劑不能影響工件的其他性能。


  所提供的水性金剛石研磨液及其制備方法,所述研磨液從制備、儲存到運輸都是在室溫下進(jìn)行的,而且可以保質(zhì)1.5-2年。在所用的微粉粒度在10nm-3μm之間時(shí),不會(huì )產(chǎn)生任何沉淀、分層和失效現象。


  當粒度在3-100μm之間時(shí),隨著(zhù)粒度的不同,研磨液會(huì )呈現不同程度的沉淀和上清液現象,粒度越大,沉淀和上清液越明顯。但出現沉淀和上清液現象也是需要一定的時(shí)間的,只要在使用前稍加搖勻,就不會(huì )影響使用效果。


  所提供的水性金剛石研磨液及其制備方法,可廣泛適用于光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金、寶石、人工晶體、光纖、LED顯示屏、集成電路、半導體、硬磁盤(pán)等多種部門(mén)和領(lǐng)域。

  【新型水性金剛石研磨液制備方法】部分摘要

  新型水性金剛石研磨液,由微米或納米級金剛石微粉、分散穩定劑、懸浮劑、pH值調節劑、防腐劑、有機溶劑、去離子水組成。金剛石微粉既可以是微米級的,也可以是納米級的:既可以是單晶的,也可以是多晶的:粒徑粒度分布范圍為lOnm-100μm。


  研磨液分散穩定劑可以是六偏磷酸鈉、聚磷酸鈉、硅酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、羥甲基纖維素、丙烯酸共聚物、高級醇磷酸酯二鈉、水解聚丙烯酰胺、縮合烷基苯醚硫酸酯、氨基烷基丙烯酸酯共聚物、十八烷基二甲基甜菜堿、聚乙烯醇、聚乙烯基醚、EO加成物中一種或幾種混合物。

  

  研磨液懸浮劑可以是皂化聚乙烯基醇、有機粘土、沉淀白炭黑、氣白自炭黑、羥基丙基甲基纖維素、2-丙烯酰胺丙磺酸鈉、膨潤土及其衍生物、水溶性纖維素中的一種或幾種的混合物。


  研磨液pH值調節劑可以是氫氧化鉀、氫氧化鈉、氨水、乙醇胺、三乙醇胺、二羥乙基乙二胺、鹽酸、硫酸、硝酸、硼酸、醋酸納中的一種或兒種的混合物。如需將研磨液往堿性方向調節,加入土述堿性物質(zhì)中的一種或幾種;如需將研磨液往酸性方向調節,加入上述酸性物質(zhì)中的一種或幾種。pH值可根據需要在2-12范圍內調節。


  防腐劑可以是苯甲酸鈉、氯化鈉、異噻唑啉酮、四氯間苯二甲腈、取代芳烴中的一種或幾種的混合物。


  有機溶劑可以是甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇、甘油、聚乙二醇、乙二胺、丙酮、乙酸乙酯、石油醚、氯仿中的一種或幾種的混合物。  


【實(shí)施例】將皂化聚乙烯基醇配制成質(zhì)量濃度為15%的水溶液,靜置24小時(shí),備用。


   取一燒杯,向其中加入40g甘油,再向其中在加入2g粒度分布在0.841-3.986μm,Dso為2.863μm的單晶金剛石微粉,并向其中加入質(zhì)量濃度為15%的皂化聚乙烯基醇水溶液10g,然后加入45g去離子水。


   將混合液用高速攪拌器進(jìn)行攪拌分散,10分鐘后,再向混合液中加入2g六偏磷酸鈉,繼續攪拌分散15分鐘。然后向其中加入30%的氨水O.5g,調節pH值為9-10之間,最后加入0.5g四氯間苯二甲腈,然后充分搖勻即可得到金剛石微粉含量為2%的水性研磨液。


  【資料描述】

   資料中詳細描述了水性金剛石研磨液制備方法和用途及生產(chǎn)技術(shù)工藝、性能測試數據,解決現有技術(shù)所存在的問(wèn)題等等。工藝簡(jiǎn)單和節約能源,該研磨液可廣泛適用于光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金、寶石、人工晶體、光纖、LED 顯示屏、集成電路、半導體、硬磁盤(pán)等多種部門(mén)和領(lǐng)域的研磨、拋光。該研磨液可長(cháng)期保持均勻穩定狀態(tài),不會(huì )產(chǎn)生任何沉淀、分層和失效現象。





    用于計算機、藍寶石襯底、光學(xué)玻璃

  納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制方法


  現有技術(shù)存在的問(wèn)題

  納米金剛石拋光液以其優(yōu)異的性能廣泛應用于計算機硬盤(pán)、計算機磁頭、藍寶石襯底、碳化硅晶片和光學(xué)玻璃等領(lǐng)域的超精密拋光。由于納米金剛石比表面積大、比表面能高,使得納米金剛石處于熱力學(xué)不穩定狀態(tài),其顆粒間極易發(fā)生團聚,并且這種團聚很難被破壞。


  在納米金剛石拋光液的應用過(guò)程中,良好的拋光液粒徑控制是獲得好的加工效果的重要保障。國內外通過(guò)一系列物理化學(xué)改性的方法對納米金剛石進(jìn)行解團聚,以此來(lái)控制納米金剛石拋光液的磨料粒徑。


  對爆轟法納米金剛石在空氣中加熱進(jìn)行改性。經(jīng)過(guò)酸化的納米金剛石在950℃空氣中氧化,sp2的碳消失,含氧官能團顯著(zhù)增加,最后制得了粒徑在60nm左右的納米金剛石懸浮液。使用超分散劑對納米金剛石表面進(jìn)行化學(xué)機械改性,使納米金剛石表面的官能團由親水基變?yōu)槭杷?,在油介質(zhì)中獲得了粒徑為53.2nm的納米金剛石懸浮液。


  現有中國專(zhuān)利采用p-10、聚乙二醇為分散劑,溶入去離子水并置于高能球磨機球磨罐中,進(jìn)行濕法研磨得到漿料,并對其進(jìn)行提純處理,得到團聚粒徑為10~100nm的納米金剛石拋光液。通過(guò)在氫氣環(huán)境中熱處理納米金剛石粉,在納米金剛石表面引入了大量的氫原子。


  經(jīng)改性后的納米金剛石,在大功率超聲波和離心機的共同作用下,可以制得4nm粒徑的納米金剛石懸浮液,納米金剛石顆粒表面電位達到60mv以上。不同粒徑的納米金剛石拋光液可應用于不同的工作環(huán)境。但由于納米金剛石拋光液中磨料粒徑不易控制,對于納米金剛石拋光液分級的技術(shù)研究很少,嚴重地制約了納米金剛石的應用與發(fā)展。


  【國內消息】

  據恒志信網(wǎng)消息:針對現有技術(shù)的不足,國內研制出一種納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制方法,可使納米金剛石拋光液中磨料平均粒徑在30~300nm之間可調,解決了目前納米金剛石拋光液中分級過(guò)程比較復雜,分級效率低的問(wèn)題。


   【納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制方法】

   

  部分摘要:

 ?。?、對納米金剛石解團聚,得到納米金剛石拋光液
  首先,采用爆轟法納米金剛石與去離子水配成濃度為O.2~2%的納米金剛石拋光液:其次,在納米金剛石拋光液中加入納米金剛石化學(xué)改性劑,在氣流粉碎機、球磨或超聲波細胞粉碎機作用下,對納米金剛石進(jìn)行改性:


  再次,使用pH調節劑調節納米金剛石拋光液,使納米金剛石拋光液的pH值在3~11之間:最后加入分散劑和懸浮劑,控制納米金剛石Zeta電位在50mv以上,獲得平均粒徑大小為30nm的納米金剛石拋光液,將此作為納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制的母液??刂萍{米金剛石Zeta電位在50mv以上是通過(guò)化學(xué)改性劑在納米金剛石顆粒表面形成特性吸附,改變了納米金剛石Zeta電位實(shí)現的。

  所獲得的納米金剛石拋光液,按重量的配比為納米金剛石0.2~2份,化學(xué)改性劑0.1~5份,pH調節劑0.1~1份,分散劑0.5~10份,懸浮劑2~20份。所述的納米金剛石為市場(chǎng)上爆轟法制備的納米金剛石,初始平均粒徑在10nm以下。所用超聲波細胞粉碎機功率為2000~4000W,超聲時(shí)間為30~300min。


  所述的pH調節劑為氨水、氫氧化鈉、氫氧化專(zhuān)甲、鹽酸、醋酸、檸檬酸、草酸、硝酸、硫酸中的一種或幾種:所述化學(xué)改性劑為氫氧化、羥乙基磺酸、四甲基氯化胺、十二烷基苯磺酸、十二基硫酸、基酚聚氧乙烯醚、羧甲基纖維素、碳酸氫鉀、硫酸胺、乙二醇、甘油、聚乙二醇200、六偏磷酸、十二基磺酸、檸檬酸等中的一種或幾種:


  所述的分散劑為月桂醇硫酸、木質(zhì)素磺酸鹽、石油磺酸鹽、十二皖基苯磺酸、聚乙二醇200、聚乙二醇400、聚乙二醇600、聚乙二醇800、四甲基氧化鍍中的一種或幾種組合:所述的懸浮劑為甘油、燒基盼聚氧乙烯醋、聚乙二醇200、聚乙二醇400、聚乙二醇600、聚乙二醇800中的一種或幾種組合。

 ?。?、納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制:

  采用步驟(1)中得到的平均粒徑為30nm的納米金剛石拋光液,在氣流粉碎機或超聲波細胞粉碎機的作用下,加入無(wú)機鹽分散劑和分散穩定劑,依次得到平均粒徑在30~300nm粒徑之間可調的納米金剛石拋光液。


  初始納米金剛石拋光液中納米金剛石Zeta電位在50mv以上,加入小分子無(wú)機鹽分散劑可使無(wú)機鹽離子在納米金剛石表面形成吸附,降低了納米金剛石的Zeta電位,從而降低了納米金剛石顆粒間的靜電位阻,同時(shí)在氣流粉碎機或超聲波細胞粉碎機的作用下,破壞了原有形成的30nm粒徑的穩定結構,使粒徑趨向于重新組合,由于不同的分散穩定劑對納米金剛石顆粒具有不同的把控能力,在分散穩定劑的協(xié)同作用下,可以獲得不同團聚粒徑的納米金剛石拋光液。

  所述的無(wú)機鹽分散劑用量為O.02~2份,所述的分散穩定劑用量為5~30份。無(wú)機鹽分散劑的加入要保證納米金剛石顆粒間Zeta電位有所降低,同時(shí)保證納米金剛石顆粒不發(fā)生聚沉。分散穩定劑的加入量要保證對納米金剛石拋光液中納米金剛石顆粒完全進(jìn)行重新包覆。


  所述的超聲波細胞粉碎機超聲功率在600~3000W,超聲時(shí)間為10~20mino所述的無(wú)機鹽分散劑為NaCl、KCl,Na2C03、KHC03、Na2S04、FeC13等中的一種或幾種:所述的分散穩定劑為甘油、乙二醇、木糖醇、山梨醇、一縮二乙二醇、聚乙二醇200、聚乙二醇600、燒基盼聚氧乙烯醋、吐溫60、吐溫80中的一種或幾種。

  用上述方法和步驟,對下列實(shí)施例進(jìn)行闡述
    【實(shí)施例】
 ?。?、首先稱(chēng)取19市售爆轟法制備的納米金剛石和0.13g六偏磷酸鈉
,在機械攪拌或去離子水中超聲分散制備出質(zhì)量分數為1%的分散液,然后置于高能球磨機中,球磨1h,取出分散液,經(jīng)過(guò)O.5um濾紙過(guò)濾去除雜質(zhì),用0.2g氨水調節pH值至8,加入十二皖基苯磺酸0.6g,聚乙二醇200為1飩,超聲60min,超聲功率為3000W,獲得平均粒徑為30nm的納米金剛石拋光液,作為納米金剛石拋光液中磨料粒徑控制的母液。
   

 ?。?、向步驟1中獲得的平均粒徑為30nm的納米金剛石拋光液中,加入Nacl 0.06g,乙二醇10g,攪拌,超聲時(shí)間20min,超聲功率1650W,獲得平均粒徑為50nm的納米金剛石拋光液。

  【研制目的及優(yōu)點(diǎn)】
  與現有技術(shù)相比,優(yōu)點(diǎn)如下:
 ?。?、在納米金剛石拋光液中添加不同的分散劑及分散穩定劑的手段來(lái)實(shí)現納米金剛石拋光液中磨料粒徑分級的目的。


 ?。?、具有工藝簡(jiǎn)單,易于工業(yè)化生產(chǎn),不需要借助其他分級設備,通過(guò)直接添加粒徑控制劑即可實(shí)現粒徑控制的目的,簡(jiǎn)單易行。進(jìn)行粒徑控制后的產(chǎn)品性能穩定,平均粒徑可穩定在三個(gè)月以上不發(fā)生團聚,可應用于不同的拋光環(huán)境,獲得不同的加工效果。  

  

   【資料描述】

    資料中詳細描述了在納米金剛石拋光液中添加不同的分散劑及分散穩定劑的手段來(lái)實(shí)現納米金剛石拋光液中磨料粒徑分級的目的。具有工藝簡(jiǎn)單,易于工業(yè)化生產(chǎn),不需要借助其他分級設備,通過(guò)直接添加粒徑控制劑即可實(shí)現粒徑控制的目的,簡(jiǎn)單易行。進(jìn)行粒徑控制后的產(chǎn)品性能穩定,平均粒徑可穩定在三個(gè)月以上不發(fā)生團聚,可應用于不同的拋光環(huán)境,獲得不同的加工效果。

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